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作者 jeffdon2 在 PTT [ NEMS ] 看板的留言(推文), 共160則

限定看板：NEMS

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[問題] spin coater塗佈約20nm光阻的均勻性

[ NEMS ]15 留言, 推噓總分: +6

作者: jimm2618 - 發表於 2018/07/28 22:16(7年前)

3^F推jeffdon2: 20nm除非有RRC不然uniformity一定很差07/29 19:26

4^F→jeffdon2: 增加倒上去的光阻量可以稍微改善，但是幫助不大07/29 19:27

5^F→jeffdon2: 建議還是要有RRC07/29 19:27

6^F推jeffdon2: 可以用手動版的RRC試試看，先倒一些光阻溶劑在wafer上07/29 19:33

7^F→jeffdon2: 趁溶劑還沒被甩乾前趕快上PR，這樣應該可以改善07/29 19:34

8^F→jeffdon2: 只是厚度會有一些減少，建議用OP量測厚度重新K轉速07/29 19:35

9^F推jeffdon2: 沒錯就是預先將溶劑倒上去，但是一般都是要由機械手臂07/29 22:28

10^F→jeffdon2: 精準控制溶劑甩開僅剩少量滯留wafer表面的時間點07/29 22:29

11^F→jeffdon2: 所以才說以一般簡易的coater很難做到這件事07/29 22:30

12^F→jeffdon2: 通常都是全自動化的track才有可能這樣做07/29 22:30

13^F推jeffdon2: 所以我才說這是手動版uniformity會改善，但是WtW07/29 22:38

14^F→jeffdon2: 的厚度會有差，人不可能像機械那麼精準07/29 22:39

[問題] 蝕刻Ti不蝕刻SiO2

[ NEMS ]2 留言, 推噓總分: +2

作者: popbear - 發表於 2017/03/24 18:31(8年前)

1^F推jeffdon2: NH4OH/H2O2/H2O 1:1:4混和溶液03/26 14:34

關於AZ5214的倒梯形結構

[ NEMS ]2 留言, 推噓總分: +1

作者: lockingdodo - 發表於 2017/03/10 13:37(8年前)

1^F推jeffdon2: 請用反轉烤，這樣自然會是倒梯形03/10 23:40

2^F→jeffdon2: 不然就改用AZ2020這支lift off專用的負光阻03/10 23:41

[問題] SU-8 微柱脫落

[ NEMS ]2 留言, 推噓總分: +1

作者: evanieh - 發表於 2015/10/30 02:20(10年前)

1^F推jeffdon2: wafer在上SU-8之前先打O2 plasma 1個晚上可以增加附著力10/30 23:07

[問題] 氧電漿黏合玻璃跟pdms問題

[ NEMS ]9 留言, 推噓總分: +3

作者: fzudox - 發表於 2015/06/04 19:21(10年前)

1^F推jeffdon2: 請注意一下腔體的真空度，最好維持在6*10^-1torr06/04 19:57

2^F→jeffdon2: 真空度太低氧氣尚未作用就被抽離，太高電漿點不著06/04 19:59

5^F推jeffdon2: 該片玻璃上如果有殘留PDMS那就沒用了06/05 12:44

6^F→jeffdon2: 另外確認一下，玻璃與塗PDMS的玻片都有打氧電漿嗎?06/05 12:45

[問題] 光阻AZ5214E膜厚

[ NEMS ]12 留言, 推噓總分: +2

作者: fzudox - 發表於 2015/05/19 14:37(10年前)

1^F推jeffdon2: 那就增加轉速啊，本來儀器用久了或多或少會有誤差05/19 17:25

2^F→jeffdon2: 當然要根據你現在的狀況去稍微調整05/19 17:26

3^F→jeffdon2: HMDS只是一層單分子層，基本上不會影響到你的厚度05/19 17:27

4^F→jeffdon2: 主要轉速從1600rpm增加到2000或是2500應該就接近2um了05/19 17:28

5^F→jeffdon2: 旋轉塗布的幾個重要因子如下:轉速大膜厚降05/19 17:30

6^F→jeffdon2: 黏度高膜厚大，以及基板特性也會或多或少影響05/19 17:31

7^F→jeffdon2: 比較直接的方式是上網下載AZ5214E的datasheet05/19 17:33

8^F→jeffdon2: 轉速對膜厚的曲線都有提供在上面05/19 17:33

9^F推jeffdon2: 基本上都是直接滴了光阻就開始轉了，沒必要中途停下05/19 17:48

10^F→jeffdon2: 中途停下是有可能造成膜厚變動05/19 17:49

11^F→jeffdon2: 而且如果晶原有盡量放在吸盤的正中央且spincoater正常05/19 17:51

12^F→jeffdon2: 應該不會有分散不均的問題05/19 17:51

[問題] 有關光罩設計

[ NEMS ]10 留言, 推噓總分: +6

作者: Madao0149 - 發表於 2015/05/13 18:45(10年前)

1^F推jeffdon2: 港建品質比慶業好，膠片光罩5吋一般525元05/13 21:44

2^F→jeffdon2: 如果圖形密集且線寬小於30um會要求用較高dpi，價格翻倍05/13 21:46

6^F推jeffdon2: 畫好圖形傳給港建後，他們就會報價給你，到時就知到價錢05/14 09:20

[問題] 金屬電極邊邊凸起消失

[ NEMS ]28 留言, 推噓總分: +11

作者: couty1234 - 發表於 2015/04/28 14:37(10年前)

3^F推jeffdon2: 應該是lift off ear無誤，不然改用蝕刻的方式04/28 15:25

4^F→jeffdon2: 或是用lift off專用的負光阻也可以改善04/28 15:26

11^F推jeffdon2: image reversal好像只聽過AZ5214E，其他廠牌要再查04/29 23:10

[問題] 請問負光阻 JSR THB-151N

[ NEMS ]2 留言, 推噓總分: +1

作者: imsaint - 發表於 2015/04/21 11:13(10年前)

1^F推jeffdon2: 軟考溫度過低，要120度，而且此光阻不需要曝後考04/21 15:31

2^F→jeffdon2: SOP上的軟考溫度是130度，但是顯影會不太乾淨04/21 15:32

[問題] 適用PDMS的微米粒子的選擇

[ NEMS ]5 留言, 推噓總分: +3

作者: paul800110 - 發表於 2015/02/25 18:04(10年前)

1^F推jeffdon2: 其他種類有SiO2,三聚氰胺,PMMA,常見的製造廠商有sigma02/25 21:30

2^F→jeffdon2: Thermo fisher,萊富(life)02/25 21:31

3^F→jeffdon2: 可是比較常用的微粒材質應該還是PS02/25 21:32

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