不好意思想請問一下,最近剛碰觸黃光製程,發現在wafer上製作直徑25及50 micron,高
度35或60micon的微柱翻模後很容易脫落,甚至翻模前輕輕碰觸就會掉。
我的製程是:
1. 先用RCA-1 clean 清洗Si 或是 SiN wafer, 要coating前再用IPA及DI洗過,氮氣吹乾
。
2. 放在hot plate 200度20分鐘烤乾。
3. spin coating SU8 2075 (預設80micron厚)。
4.軟烤:hot plate 65度 2分鐘,70度5分,80度5分,90度5分,95度9分,然後自然冷卻
到45度左右 (自然冷卻約經15分鐘)。
5. 曝光 (膠片光罩,用soft contact)
6. 曝後烤與軟烤參數一樣。
7. 顯影7分鐘後再換新的顯影液顯影2分鐘, 再用IPA 沖洗。
結果厚度比預設要少15到20 micon,厚度差異對後續實驗是沒有太大影響,直徑100micon
以上的微柱翻模也沒問題,50的則是翻幾次會掉,35或25的則是黏在PDMS上...但感覺主
要還是小pattern與wafer之間黏附性太差。
也曾經有用omnicoat想增強adhesion,但也沒有改善,因此想請教大家不知是否知道我是
哪個步驟出了問題?謝謝!
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