[問題] 名詞-> Gate-Length Biasing
最近一直在paper上看到這樣的字眼
而查google時 大都只說
Unlike multi-Vth techniques, gate-length biasing requires no additional
masks and may be performed at any stage in the design process.
感覺起來字面上的biasing 好像不是靠偏壓造成的
是指製程上故意製造出來有不同channel-length的電晶體嗎?
那是利用drain和source的dopant濃度不同所致嗎?
謝謝
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.114.75.166
推
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