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作者 SkyLark2001 在 PTT 全部看板的留言(推文), 共1072則

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[問題] SU8-2025 剝離

[ NEMS ]7 留言, 推噓總分: +2

作者: stan8054 - 發表於 2015/05/16 12:18(9年前)

5^F推SkyLark2001: http://memscyclopedia.org/su8.html05/19 06:33

6^F→SkyLark2001: 可以看底下adhesion那部分05/19 06:34

[新聞] 應材推全新光照蝕刻系統

[ Tech_Job ]10 留言, 推噓總分: +4

作者: saed - 發表於 2015/05/11 12:51(9年前)

6^F→SkyLark2001: 不是，是利用蝕刻來加工光罩，改變光的相位，如此可05/12 03:22

7^F→SkyLark2001: 以有效縮短pitch，當然還是要搭配OPC, DFM05/12 03:23

8^F→SkyLark2001: 可查詢關鍵字phase shift mask05/12 03:23

[問題] 金屬電極邊邊凸起消失

[ NEMS ]28 留言, 推噓總分: +11

作者: couty1234 - 發表於 2015/04/28 14:37(9年前)

1^F推SkyLark2001: 敯豸l你是用lift-off，那個凸起很有可能是原本PR邊緣04/28 14:41

2^F→SkyLark2001: 的階梯覆蓋...若不影響你的device的話我是覺得無妨04/28 14:44

6^F推SkyLark2001: 我會先用超音波去震，看能不能有效改善不行的話看你04/29 09:43

7^F→SkyLark2001: 手邊改負光阻方不方便，或是改用bi-layer的liftoff04/29 09:43

12^F推SkyLark2001: 特定光阻才能做imaging reversal, 我是建議不用特地04/30 00:31

13^F推SkyLark2001: 簡單用負光阻或正光阻bilayer 比較實際04/30 00:33

14^F推SkyLark2001: 另外超音波震洗的哪種溶劑在這個階段的話沒差吧04/30 01:45

15^F→SkyLark2001: 我會先用acetone進行大範圍的liftoff 越乾淨越好04/30 01:46

16^F→SkyLark2001: 之後再用超音波震洗來清理小細節沒lift好的地方04/30 01:46

17^F→SkyLark2001: 因為若是一開始就用超音波震洗，會造成大規模金屬顆04/30 01:47

18^F→SkyLark2001: 粒沾附在substrate表面，很難完全清理乾淨04/30 01:47

[北美] 選校與未來工作

[ Oversea_Job ]37 留言, 推噓總分: +15

作者: kiwilu - 發表於 2015/04/10 21:34(9年前)

6^F推SkyLark2001: 原po選個自己喜歡的學校讀就可以了.反正工作一樣難找04/11 02:31

7^F→SkyLark2001: 機械本就是出國留學投資報酬率最差的工學院科系之一,04/11 02:32

8^F→SkyLark2001: 碩士更慘。只要心理有個底，之後也不致於太徬徨04/11 02:33

14^F推SkyLark2001: 那這樣是UMich機械本身排名以及地理環境不錯。我在某04/11 05:08

15^F→SkyLark2001: top30的ME,七年中看過畢業的沒身分博士生兩位數，04/11 05:11

16^F→SkyLark2001: 現在在美國而且是走傳統機械領域業界的，004/11 05:12

17^F→SkyLark2001: 只有一個去半導體公司做reliability的算是勉強沾到邊04/11 05:15

18^F→SkyLark2001: 當然top30 跟top 5的確是有差距的04/11 05:17

[北美] 請問有前輩在GlobalFoundries嗎?

[ Oversea_Job ]23 留言, 推噓總分: +9

作者: outzumin - 發表於 2015/04/01 03:37(9年前)

5^F推SkyLark2001: GF在美國只有fab8所以你看到的評價當然都是針對fab804/01 04:27

6^F→SkyLark2001: 如果新加坡人也大舉用glassdoor的話你就會看到fab2304/01 04:28

7^F→SkyLark2001: 56的評價會更慘不忍睹04/01 04:29

10^F推SkyLark2001: 基本上代工這種高工時，低生活品質的型態還是沒辦法04/01 04:32

11^F→SkyLark2001: 被美國的主流文化接受。04/01 04:33

12^F→SkyLark2001: 不用內推，現在fab8大舉釋出職缺，可以直接投04/01 04:34

13^F→SkyLark2001: 但對方其實要求的是可以立刻上工的。八月太晚04/01 04:35

17^F推SkyLark2001: d1c去年底就凍了但是ptd偶爾還是會徵人，你需要的是04/01 08:18

18^F→SkyLark2001: 找的到INTEL ptd的人幫你內推04/01 08:18

20^F推SkyLark2001: 不是開帳號那種，沒啥用。是直接把你履歷放到HM桌上04/01 08:20

[討論] 能蝕刻出高深寬比的DRIE設備

[ Tech_Job ]21 留言, 推噓總分: +10

作者: jgwihi - 發表於 2015/01/01 20:16(9年前)

18^F推SkyLark2001: 原PO不介意可至MEMS版討論，我不清楚業界但可提供學01/03 07:36

19^F→SkyLark2001: 界經驗。至於t兄的問題，十之八九是黃光沒做好。01/03 07:37

[問題] 193 及 248 nm 光源

[ NEMS ]7 留言, 推噓總分: +2

作者: frank0910 - 發表於 2014/12/18 22:31(9年前)

4^F推SkyLark2001: 這兩種波長尤其193基本上就是現在半導體製程黃光12/20 09:02

5^F→SkyLark2001: 的主力。基本上你要用投影式的曝光機幫你做50nm，除12/20 09:03

6^F→SkyLark2001: 非你可以找的到50nm線寬以下的晶圓廠幫你代工，不然12/20 09:04

7^F→SkyLark2001: 設備是一般人買不起的。所以如同J兄所言，請愛用EBL12/20 09:04

[問題] 微米圓洞陣列製作及PDMS翻模疑問

[ NEMS ]4 留言, 推噓總分: +2

作者: james9051518 - 發表於 2014/12/02 18:01(9年前)

1^F推SkyLark2001: 如果你光罩解析度(最小線寬)只有2um，你又沒有投影式12/09 05:08

2^F→SkyLark2001: 曝光機，那你就只能用EBL沒的選。用EBL的話可以長12/09 05:09

3^F→SkyLark2001: oxide, 這樣理論上撐10um沒問題12/09 05:09

[問題] 購買靶材

[ NEMS ]5 留言, 推噓總分: +1

作者: az200522 - 發表於 2014/11/27 15:01(9年前)

1^F→SkyLark2001: 你要問的是基板不是靶材11/27 16:40

[北美] IBM面試分享

[ Oversea_Job ]20 留言, 推噓總分: +15

作者: sheik2 - 發表於 2014/11/14 07:13(9年前)

1^F推SkyLark2001: 其實在這行呆久覺得台積真得很威，美國同業都很看重11/14 07:48

2^F→SkyLark2001: 但前提是要在台積裡面有學到東西11/14 07:48

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