[問題] 關於RIE側壁不夠垂直

看板NEMS作者時間10年前 (2014/03/03 23:53), 編輯推噓2(2推 0噓 0→)
留言2則, 2人參與, 最新討論串1/4 (看更多)
各位大大好 我的材料是四族 深寬比約0.1 使用的光阻是AZ5214(2000rpm) post bake 150度10min(hot plate) RIE用的氣體是CF4(80%) O2(10%) Ar(10%) RF power 30w 目前吃出來的圖形總是會呈現梯形___◢████████◣___ 離老師要求的垂直側壁 ___██████████___ 還差很遠Orz 請問我該如何改進才能達到我的要求呢?? 抱歉這問題可能有點淺，但我念機械出身半導體製程實在很苦手... 麻煩各位解答了 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.123.123.208 ※ 編輯: uehara19k 來自: 140.123.123.208 (03/04 13:14)
推
03/04 20:15, , 1F
試著提高Ar比例？
03/04 20:15, 1F
推
03/06 04:54, , 2F
改用sputtering etch就可以了
03/06 04:54, 2F
‣ 更多 uehara19k 的文章
文章代碼(AID): #1J5ALlZ- (NEMS)
‣ 更多 uehara19k 的文章
文章代碼(AID): #1J5ALlZ- (NEMS)