Re: [問題] 利用PDMS翻模
※ 引述《secret320 (誠..)》之銘言：
: 想請問一下使用PDMS翻模(150nm寬100nm深光柵)翻印不成功
: 使用喬越的PDMS及矽油
: 製程是先在培養皿調配A劑:B劑:矽油=10:1:1(稀釋PDMS)
: 並攪拌,將培養皿放入真空球中,利用機械pump抽至2*10-4torr
: 持續5mins(確認無氣泡),破真空將PDMS後倒入母模
: 再利用真空球抽真空約10mins(確認無氣泡)拿去hotplate上加熱
: 80度1hr,翻印多次都沒成功,有試過在母模上利用UV-OZONE
: 使之親水,發現無法拔模,不知道大家是怎麼翻印200nm以下的結構呢
: 謝謝回答的人
如果可以做silanization讓表面成為hydrophobic將會很有幫助，hydrophobic可使：
1. 母模不沾黏，容易脫模。
2. 更重要的是可讓PDMS更容易浸潤整個結構。
我曾經做過直徑150nm深1.5um的母模，在silanization後甚至不需另加壓力或抽真空，
皆可順利成型與脫模(成柱狀)。
還有要注意使用fluorosilane based chemical時要注意：
1. 先使用O2 plasma做表面處理使Si表面形成covalent bonding
2. 保持chamber的乾燥，以免水氣和silane反應
通silane的方式有很多種，我所使用的是揮發：
(TRIDECAFLUORO-1,1,2,2-TETRAHYDROOCTYL)TRICHLOROSILANE
祝實驗順利 :)
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 68.232.118.110
推
03/18 23:22, , 1F
03/18 23:22, 1F
推
03/18 23:27, , 2F
03/18 23:27, 2F
推
03/19 01:46, , 3F
03/19 01:46, 3F
推
03/21 14:15, , 4F
03/21 14:15, 4F
推
03/21 20:07, , 5F
03/21 20:07, 5F
→
03/22 16:16, , 6F
03/22 16:16, 6F
推
03/22 22:54, , 7F
03/22 22:54, 7F
推
03/23 01:14, , 8F
03/23 01:14, 8F
推
03/23 01:22, , 9F
03/23 01:22, 9F
→
03/23 01:25, , 10F
03/23 01:25, 10F
→
03/23 01:27, , 11F
03/23 01:27, 11F
討論串 (同標題文章)