Re: [請問]氫氟酸與矽
※ 引述《PDADDY (All Eyez On Me)》之銘言：
: ※ 引述《NBC427 (煞科)》之銘言：
: : 請問熟知化學的先進
: : 矽片(完全未經製程 是來料且被拋光的矽)
: : 跟氫氟酸溶液不會起反應
: HF和silicon本來就不會反應
: HF主要是和silicon dioxide反應
: : 在物質安全資料表上 氫氟酸應該比重是小於矽才對
: : (HF:1.4, Si:2.32 g/cm^3)
: : 為何把矽丟入氫氟酸內 矽反而會浮上來呢
: : 這是在學校做過的實驗 但不了解為何會這樣
: 如果是一般市售的silicon wafer(厚度大約200~300micro)
: 丟進HF溶液理 的確有機會飄浮在水面
: 不過是因為表面張力的關係
: 你去推一下wafer 改變他的平衡 就會沉下去了
: 如果是你丟進去 下沉再浮起來 就是有反應了
: 不過不是silicon 和HF的反應
: 而是silicon表面在空氣中自然形成的silicon dioxide和HF反應
: wafer背面和正面都會有小汽泡 因此wafer就會浮起來了
: 一般人可能會覺得拋光後應該就沒有氧化層了
: 的確是這樣沒錯 不過放在空氣中還是會繼續生成氧化層
: 判斷silicon wafer表面有沒有氧化層的方式
: 一般是用親疏水性來判斷
: 不過如果表面拋光品質夠好 就算有50~100nm厚度的氧化層
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一般的的wafer 之氧化層會呈疏水性,要先吃過HF他會先變親水性(這時還是氧化層)
最後再變回疏水性(無氧化層)
: 依然是呈現疏水性的
: 這和一般常理相違背
: 我們推測應該是表面經過拋光變得過於平整
: 水分子沒辦法附著在上面的關係
: 有點類似荷葉上的水珠的感覺
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