作者 fotoa 在 PTT [ NEMS ] 看板的留言(推文), 共25則

[問題] 請問一下有關於光阻氣泡的問題!!

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作者: iamalonso - 發表於 2010/10/27 20:58(15年前)

1^F→fotoa:試試看靜置吧有時候厚膜要靜置到10分鐘10/28 12:50

[問題] az4620深寬比

[ NEMS ]11 留言, 推噓總分: +3

作者: forceout - 發表於 2010/04/21 13:17(15年前)

2^F→fotoa:軟烤調久點可以曝久一點深寬比較大時需要這樣調整...04/21 16:16

3^F→fotoa:深寬比的話好像不能到那麼高你拿原廠資料確定一下04/21 16:23

4^F→fotoa:話說....你4620 怎麼轉到50um的阿...04/21 22:11

8^F→fotoa:這...應該不能做吧雙層多層的作法好像不是只有轉多次阿..04/24 03:11

[問題] SU8-1075使用問題

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作者: edcu - 發表於 2010/03/24 11:39(16年前)

10^F→fotoa:可以去查有關雙層光阻的製程簡單來說軟烤的總時間不變03/25 11:13

11^F→fotoa:大致上3:7 這樣分配給第一層跟第二層就可以了03/25 11:14

[問題] RIE蝕刻限制

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作者: asdwqq - 發表於 2010/03/19 18:20(16年前)

3^F→fotoa:是可以25到30的深寬比...不過還是要看被吃的材料跟阻擋層...03/21 00:19

4^F→fotoa:還有孔與孔的間隙...不能太小...最終最大的問題應該是......03/21 00:20

5^F→fotoa:有機台願意讓你試這種的參數...這件事應該是最難...03/21 00:21

[問題] 電磁學問題...

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作者: likebb - 發表於 2010/01/20 16:18(16年前)

2^F→fotoa:如果只是要看這三個費曼物理學II V1 可以去看看01/20 21:59

[問題] 蝕刻問題

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作者: dantallcool - 發表於 2009/11/11 15:50(16年前)

3^F→fotoa:普通光阻應該是擋不住KOH...容器則是玻璃燒杯就可以...11/11 16:03

[問題] 請教畫圖問題~

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作者: lockq - 發表於 2009/11/07 15:50(16年前)

2^F→fotoa:solidwork 可以做到...調透明度就可以11/07 21:34

[問題] 除了silicon nitride和oxide,還有什麼能擋KOH,TMAH?

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作者: forceout - 發表於 2009/11/04 22:32(16年前)

1^F→fotoa:用金屬擋? 不過線寬5mm 用洗刀比較快吧...洗個模具在鋪PDMS.11/06 01:41

2^F→fotoa:應該可以得到相同的結構...11/06 01:41

5^F推fotoa:雷射其實是可以切角度的...11/09 19:22

6^F→fotoa:而且線徑太大了應該是不會有角度的...11/09 19:24

[問題] SU-8 Reflow 的問題

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作者: fotoa - 發表於 2009/05/20 15:26(16年前)

3^F→fotoa:黏度跟4620差不多大概也是 500轉 20幾um05/20 16:12

6^F→fotoa:我也這麼想過...可是PAPER卻真的有人作..很詭異....05/24 13:06

8^F→fotoa:reflow 就是要曝光顯影後才烤所以真的沒有reflow?05/25 14:38

[問題] 請問HMDS要滴多少?

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作者: daybin - 發表於 2009/05/18 03:44(16年前)

6^F→fotoa:揮發很快不用塗太多塗完要快點轉開不然會不見05/19 08:56

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