[問題] SU8-1075使用問題
實驗室現在使用的是SU-8 1075 ，因為製程的關係所以必須要在兩層光阻中間放一個
東西，再經過曝光顯影後會變成一個懸空的結構，那目前的方式是先旋一層100 um的
高度，然後放置我的物體，再旋200 um 把物體包覆住，可是現在遇到一個問題就是
第二層光阻包覆物體後曝光完做曝後烤動作時，SU-8 1075光阻會變軟，導致我的物體
會往下沉到底，可是我目前做的印象中，光阻經過曝光後不是應該會硬化嗎，怎麼會
在做曝後烤動作時光阻還會軟化 ? 不知道板上的高手能不能幫我想想問題點在那裡或
是有其他的方式能使用的 ?? 請各位幫幫忙，謝謝~~~~~~~
PS 因為以前學長用的是SU8-100，不會出現這樣的問題，可是我們換成SU-8 1075後就
開始有這樣的情況發生，所以才上來問看看是那裡出了問題
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.121.125.94
推
03/24 14:53, , 1F
03/24 14:53, 1F
→
03/24 14:53, , 2F
03/24 14:53, 2F
→
03/24 14:54, , 3F
03/24 14:54, 3F
推
03/24 15:09, , 4F
03/24 15:09, 4F
→
03/24 15:38, , 5F
03/24 15:38, 5F
→
03/24 15:41, , 6F
03/24 15:41, 6F
推
03/24 18:03, , 7F
03/24 18:03, 7F
→
03/24 18:03, , 8F
03/24 18:03, 8F
推
03/24 22:00, , 9F
03/24 22:00, 9F
→
03/25 11:13, , 10F
03/25 11:13, 10F
→
03/25 11:14, , 11F
03/25 11:14, 11F
→
03/25 22:22, , 12F
03/25 22:22, 12F
→
03/25 22:23, , 13F
03/25 22:23, 13F
→
03/25 22:24, , 14F
03/25 22:24, 14F
→
03/25 22:31, , 15F
03/25 22:31, 15F
→
03/26 01:21, , 16F
03/26 01:21, 16F