Re: [請益] 面試被問後段製程為什麼半導體蓋那麼高
※ 引述《mytaiwan (轉角遇到困難)》之銘言:
: 如題,面試某科技廠時被問CMP和BEOL這些方向,結果人資問BEOL為什麼要蓋那麼高(
示
: 意圖)我說訊號傳遞,人資說能不能再清楚一點,然後我也不知道怎麼掰了。回到家還
是
: 在想為什麼要一直堆疊,可是谷歌的結果也是沒答案,各位鄉民知道嗎?
: https://i.imgur.com/EGNtsRB.jpg

乾…連這個都答不出來
平常在板上洗臉人資 結果一問就倒
會越蓋越高這情況只有在邏輯電路比較常見
Dram 後段相對簡單很多
原因是因為 相同面積下要增加電晶體密度
只能往垂直發展(例如:固態硬碟就是3D閘)
另一個原因是電路功能越多 繞線就越複雜
當然只能越疊越多層
還有一個原因是如果不是用EUV ,hard mask 也會隨著尺寸縮小越疊越多層
(有些hard mask 就會留著沒去掉)
以後答不出來 記得跟人資要電話 說回去查清楚再回覆她….懂?
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管她正不正…先要再說
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討論串 (同標題文章)
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