Re: [問題] 光阻曝光後光阻形狀
塑膠光罩意思是俗稱的網片，膠片嗎？
如果是的話
差異 6 microns
最有可能的原因有二
1. 是你的網片正反弄錯了。必須要油墨那一面貼著wafer
2. 曝光時的接觸模式要選最貼的那種，通常是H+V contact(hard + vacuum)
這種接觸模式需要讓試片在曝光軟烤後要1. 烤熟(....) 2.烤後要放涼，甚至大概
半小時左右再去曝光。不然的話H+V模式會讓剛烤完就去曝光的wafer緊緊粘在
光罩上分不開
以上兩點都檢查改進後應該可以改善上下差距6 microns的誤差讓整體輪廓接近垂直。
但只是接近，要做到更好就需要從曝光以及軟烤時間去改善。這就比較耗費功夫了。
忘了補充了還有的三點。那就是硬烤。若你接下來的步驟不需要硬烤那最好。
硬烤會造成resist reflow
http://bt-onethousand.photonics.ac.uk/optics.htm
如果接下來的製成要求你的4620必須要硬烤，可以試試低溫(低於80度)，長時間
(十幾個小時)的低溫硬烤
又想到一個第四點，那就是edge bead
edge bead. 這點在厚光阻尤其嚴重。你轉完2x 厚度的4620厚注意看wafer周圍一圈，
是不是都有凸起。這種厚光阻堆積在wafer最周圍無法轉開的現象稱作edge bead
嚴重時會在邊緣形成數十microns的凸起，造成曝光時光阻無法跟光罩緊貼。
通常第二點提到的vacuum contact可以克服這這一點。但我沒做過那麼厚的4620，
所以我建議你若wafer周圍那一圈太厚，可以在轉完光阻後，重新用spinner轉一次，
轉的時候用acetone水柱把最邊緣的地方洗掉
※ 引述《ak43gh7py (憨廷)》之銘言：
: 請教一下，我利用塑膠光罩21、23、25、27、29um等，圓心到圓心間距則都是100um
: ，光阻為az-4620，厚度約25um，但是經過曝光顯影完後卻都差約5um，然後光阻柱底徑
: 和頂徑再差約6um，曝光時間和溫度都有做過調整，目前參數也是試過後最加的參數
: ，有試過調整曝光時間和溫度，但要不是會烤焦就是顯不乾淨，顯影時搖晃幅度也很小
: 不知道版上是否也有前輩遇過這種事情，我在想是不是間距太大的關係，還是有其它因素
: ，謝謝大家
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本球隊一切依法行政，謝謝指教。
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※ 編輯: SkyLark2001 來自: 69.91.153.43 (02/22 07:03)
推
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