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討論串[問題] 光阻曝光後光阻形狀
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[問題] 光阻曝光後光阻形狀
推噓0(0推 0噓 7→)留言7則，0人參與, 最新作者ak43gh7py (憨廷)時間11年前 (2013/02/21 01:31), 編輯資訊
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請教一下，我利用塑膠光罩21、23、25、27、29um等，圓心到圓心間距則都是100um. ，光阻為az-4620，厚度約25um，但是經過曝光顯影完後卻都差約5um，然後光阻柱底徑. 和頂徑再差約6um，曝光時間和溫度都有做過調整，目前參數也是試過後最加的參數. ，有試過調整曝光時間和溫度，但要
#2
Re: [問題] 光阻曝光後光阻形狀
推噓1(1推 0噓 5→)留言6則，0人參與, 最新作者SkyLark2001 ( )時間11年前 (2013/02/22 06:48), 編輯資訊
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塑膠光罩意思是俗稱的網片，膠片嗎？. 如果是的話. 差異 6 microns. 最有可能的原因有二. 1. 是你的網片正反弄錯了。必須要油墨那一面貼著wafer. 2. 曝光時的接觸模式要選最貼的那種，通常是H+V contact(hard + vacuum). 這種接觸模式需要讓試片在曝光軟烤後要
(還有561個字)
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