Re: [問題]HMDS使用問題
1. 一般HMDS 用旋塗方式塗佈的環境用有 fume hood(抽風櫃)的 spin coater就可以了，
處理方式與一般光阻同
事實上台灣的製程界中HMDS口耳相傳是致癌物，但一般HMDS的MSDS上卻並無此一說
http://www.jtbaker.com/msds/englishhtml/h2066.htm
同時在google搜尋 HMDS跟 carcinogenic (致癌的 adj)
有部分連結明確表示HMDS是致癌物但無詳細說明，
但有更多其他連結表示HMDS是"疑似"致癌物，尚未證實
不過這種關係自身健康的東西當然小心為上寧可信其有
2. HMDS 這種東西最有效的是用蒸氣方式散布在wafer上 (wiki)
這台 http://www.photonicmicrodevices.com/Yes_310_Oven.html 在國外蠻普遍的
(HMDS Oven, 溫度在攝氏一百五十度)
用旋塗的話，基本上就是一種塗佈方式，所以其實轉速時間並不重要。
因為這一台run 一次大約三十分鐘，所以有時候要偷懶的話，
我在國外的無塵室另有供應一種primer 叫做P-20，跟HMDS外觀很像一樣是無色液體
用法就是在轉光阻之前先轉一次這種P-20
至於要不要烤，則比較眾說紛紜，大部分user都不烤，也有一兩個user建議
用100度C烤一分鐘。
3. HMDS是一種會自行水解的C-Si鍵結的化合物
作用方式是在Silicon表面改變親疏水性以增進光阻對於wafer 表面的黏著力
既然會自行水解，加上厚度薄到不能再薄，
所以塗了之後基本上可當作不存在
※ 引述《areckin (女王萬歲)》之銘言：
: 我有以下關於使用HMDS的問題:
: 1.若在手套箱裡使用spin coater塗佈HMDS在Si wafer上
: 有無毒性安全上的問題?
: 2.可否提供適當的轉速、時間、烤乾的溫度時間嗎?
: 3.在後續製程會用O2 RIE去除光阻，那光阻底下的HMDS是否會連同光阻清除掉?
: 謝謝!
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