[問題]HMDS使用問題

看板NEMS作者 (女王萬歲)時間13年前 (2011/05/07 00:50), 編輯推噓3(3推 0噓 6→)
留言9則, 3人參與, 最新討論串1/2 (看更多)
我有以下關於使用HMDS的問題: 1.若在手套箱裡使用spin coater塗佈HMDS在Si wafer上 有無毒性安全上的問題? 2.可否提供適當的轉速、時間、烤乾的溫度時間嗎? 3.在後續製程會用O2 RIE去除光阻，那光阻底下的HMDS是否會連同光阻清除掉? 謝謝! -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 218.174.111.101
推
05/07 01:35, , 1F
HMDS 要在適當的腔體操作 粗真空>蒸鍍>抽氣>purge N2
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05/07 01:36, , 2F
> 抽真空 > vent > 取試片
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05/07 01:38, , 3F
不過研究生 不適用勞安法規 教授會說那一點點沒關西XD
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05/07 01:39, , 4F
我以前都是巴拉巴拉的做 現在也沒事(迷之聲:快去我敢生等)
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05/07 01:40, , 5F
更正 : 趕
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推
05/07 01:55, , 6F
高致癌物質 但是大家都沒在怕的 都用spin coater ○rz
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推
05/07 06:50, , 7F
教授 : 黃光是大門在此 給我進去 C (菸)
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05/07 13:45, , 8F
所以我才會考慮在手套箱操作,因為我使用Chlorobenzene也是
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05/07 13:46, , 9F
也是在手套箱中的spin coater操作,氣體不會洩漏出來
05/07 13:46, 9F
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