Re: [問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎？
如果沒有相關知識只看人家發的稿就會這樣
有唸過一點光學的都很容易明白這個就是亂唬爛
第一
雷射功率
光的強度取決粒子多寡，精確到3nm意義不只是光徑縮小到3nm，也要有足夠的功率去刻晶片。
第二
精確度
雷射打的位置是否偏移，穩定度等，這都是需要極其精密的設計與零件品質。
這方面中國……
第三
光散射
讀過基本光學都知道光通過狹縫會繞射
所以看到最後一段就會覺得這在供啥小
結論：文組洗洗睡啦
※ 引述《esolve (nobbb)》之銘言：
: 中國不是做光刻機
: 中國是做光刻工廠
: 做光刻機確實很難
: 因為荷蘭asml做光刻機有積累有專利，是多個國家高精尖技術的匯聚
: 但是荷蘭做的光刻機是為了賣
: 所以要做的小，做成產品
: 但是中國做光刻工廠不是為了賣，而是為了造芯片
: 所以不需要做小，不需要那麼多高精尖配件
: 這就是另闢蹊徑
: 比如說
: asml光刻需要的光源要做到精確的3nm
: 那確實很難
: 但是中國光刻工廠就不做精確光源
: 而是做精確的篩子
: 3nm 7nm 14nm的篩子
: 用同步輻射光源打出各種光
: 刻3nm芯片的部分放上3nm篩子
: 刻7nm芯片的部分放7nm篩子
: 這樣一次發射，同時刻不同芯片
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討論串 (同標題文章)
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完整討論串 (本文為第 3 之 3 篇)：
