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討論串[問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎？
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#1
[問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎？
推噓6(13推 7噓 26→)留言46則，0人參與, 8月前最新作者bbat (皮皮)時間8月前 (2023/09/15 00:28), 編輯資訊
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https://i.imgur.com/oCVDG3C.jpg. https://bit.ly/45OOQnj. https://i.imgur.com/54kg3Vu.jpg. https://bit.ly/3Ln6dne. https://i.imgur.com/LDBGv1c.jpg. htt
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#2
Re: [問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎？
推噓16(22推 6噓 43→)留言71則，0人參與, 8月前最新作者esolve (nobbb)時間8月前 (2023/09/15 10:14), 8月前編輯資訊
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中國不是做光刻機. 中國是做光刻工廠. 做光刻機確實很難. 因為荷蘭asml做光刻機有積累有專利，是多個國家高精尖技術的匯聚. 但是荷蘭做的光刻機是為了賣. 所以要做的小，做成產品. 但是中國做光刻工廠不是為了賣，而是為了造芯片. 所以不需要做小，不需要那麼多高精尖配件. 這就是另闢蹊徑. 比如說.
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#3
Re: [問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎？
推噓4(4推 0噓 21→)留言25則，0人參與, 8月前最新作者Kyind (艾米恩)時間8月前 (2023/09/15 10:57), 編輯資訊
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如果沒有相關知識只看人家發的稿就會這樣. 有唸過一點光學的都很容易明白這個就是亂唬爛. 第一. 雷射功率. 光的強度取決粒子多寡，精確到3nm意義不只是光徑縮小到3nm，也要有足夠的功率去刻晶片。. 第二. 精確度. 雷射打的位置是否偏移，穩定度等，這都是需要極其精密的設計與零件品質。. 這方面中國
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