[問題] 請問一些半導體製程的問題
不好意思
我有一些半導體製程的問題想請教大家:
(1)Why the potential of a glow discharge used in dry etching or sputtering
deposition is positive, relative to ground
(2)When etching Si over SiO2 in a CF4 plasma, the problem of obtaining an
adequately high Sfs does not usually exist. Why?
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