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討論串[問題] 請問一些半導體製程的問題
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Re: [問題] 請問一些半導體製程的問題
推噓0(0推 0噓 0→)留言0則，0人參與, 最新作者Rigid (陽光下的奇蹟)時間19年前 (2006/06/18 19:01), 編輯資訊
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I think it results from that the plasma in dry etching or sputtering. system is negative charged.. In this case, you need a positive potential to attr
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[問題] 請問一些半導體製程的問題
推噓0(0推 0噓 0→)留言0則，0人參與, 最新作者askakai (沒記憶就只是空殼)時間19年前 (2006/06/18 13:49), 編輯資訊
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不好意思. 我有一些半導體製程的問題想請教大家:. (1)Why the potential of a glow discharge used in dry etching or sputtering. deposition is positive, relative to ground. (2)W
(還有19個字)
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