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作者 tcc529 在 PTT [ NEMS ] 看板的留言(推文), 共7則
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[問題] 光阻曝光後光阻形狀
[ NEMS ]7 留言, 推噓總分: 0
作者: ak43gh7py - 發表於 2013/02/21 01:31(13年前)
1Ftcc529:基本上塑膠光罩的解析度原本就不比鉻膜光罩來的好,因此會02/21 10:21
2Ftcc529:出現曝光後尺寸與設計不符的狀況也是合理,再說你的深寬比02/21 10:22
3Ftcc529:接近1:1,在曝光跟顯影時也不容易做到非常完美,建議如果02/21 10:23
4Ftcc529:製程容許的話減低光阻厚度試試看,就之前做的經驗看,會誤02/21 10:24
5Ftcc529:差2~5um都算可容忍的範圍,不過我們是做50um以上的線寬,因02/21 10:25
6Ftcc529:此對這種誤差就覺得無所謂囉~~02/21 10:25
[問題] 請問國內晶圓雷射切割廠商??
[ NEMS ]1 留言, 推噓總分: +1
作者: jo78jo78 - 發表於 2012/09/20 10:34(13年前)
1Ftcc529:雷傑科技...在新竹水利路09/20 12:16
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