作者查詢 / kevinho0603
作者 kevinho0603 在 PTT 全部看板的留言(推文), 共29則
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4F→: 謝謝大大指點,已成功修改02/22 01:26
25F推: 22中精實器材班lockin哥簽到11/10 20:22
7F推: 安安 141++09/24 01:30
7F→:大概1W左右,因為我看這幾台價格都差不多才沒寫04/20 00:47
1F推:感謝這麼精闢的回答,因為我需要把325um的晶圓打穿,12/06 16:52
2F→:應該是需要硬烤,如不硬烤,在打ICP時光阻應該會12/06 16:55
3F→:不夠力吧。所以說硬烤時間要比軟考時間長嗎?12/06 16:57
14F推:這樣我了解了,感謝你這麼棒的回答:)12/12 13:32
15F→:我想問你提到 RIE descum的部分,我是曝光定義圖案後12/12 13:46
16F→:使用BOE將氧化層吃掉,這樣還有需要使用RIE???12/12 13:47
21F推:謝謝你的回答!!!!02/06 10:10
3F→:如果我之後是要打ICP呢?12/05 15:24
1F推:所以在MeshAttri裡選擇MAT number也是如此嗎?08/01 12:49
2F推:我算是新手,其實不太知道命令怎麼用,有點選方式嗎?08/01 12:55
1F→:大大們,我剛剛是做了一個書本例題,發現也是這樣08/01 12:25
2F→:還是說它編號是這樣,假如選擇體積3編號為308/01 12:28
3F→:再選擇體積二為2,回頭在去點體積三會發現為208/01 12:29
4F→:會不會是因為我上一個是設定2,所以它介面編號停留在208/01 12:30
5F→:其實已經設定好了沒有錯誤?08/01 12:30
2F→:並無訊息,只是再回去檢查設定過的區域07/31 18:15
3F→:會因為其他區域改變而跟著改變,跟連結的問題一樣>"<07/31 18:21
2F→:所以不需要代寄來的通知單嗎???07/27 15:31