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作者 capsss 在 PTT [ NEMS ] 看板的留言(推文), 共13則

限定看板：NEMS

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[問題] 降低加熱之消耗功率

[ NEMS ]10 留言, 推噓總分: +2

作者: capsss - 發表於 2012/05/14 21:49(13年前)

1^F→capsss:忘了說因為我要加熱的區域很大所以沒辦法用挖空Si的方式05/14 21:51

2^F→capsss:去減少散熱挖空的話上面MIM的薄膜應該會塌掉05/14 21:51

7^F→capsss:謝謝樓上大大的回答我有嘗試過用ansys去分析但是因為厚05/19 22:43

8^F→capsss:度與長寬的尺度相差太大而無法切網格 comsol的話可以嗎?05/19 22:43

9^F→capsss:我最近才接觸熱傳模擬軟體很多不懂請見諒05/19 22:44

Re: [問題] S1813 小線寬的lift off

[ NEMS ]2 留言, 推噓總分: +2

作者: SkyLark2001 - 發表於 2012/02/28 10:47(14年前)

5^F→capsss:謝謝樓上二位但是因為我的結構中有SiO2 不大適合放硫酸加02/27 22:31

6^F→capsss:雙氧水另外如果不烤這麼乾我好像曝光的時後光罩一壓上去02/27 22:31

7^F→capsss:繞射條紋就變很多因位我還要第二道同樣圖形對準02/27 22:32

8^F→capsss:我怕在Wafer下面墊上濾紙會使得對準不準02/27 22:33

[問題] S1813 小線寬的lift off

[ NEMS ]9 留言, 推噓總分: +2

作者: capsss - 發表於 2012/02/27 10:02(14年前)

5^F→capsss:謝謝樓上二位但是因為我的結構中有SiO2 不大適合放硫酸加02/27 22:31

6^F→capsss:雙氧水另外如果不烤這麼乾我好像曝光的時後光罩一壓上去02/27 22:31

7^F→capsss:繞射條紋就變很多因位我還要第二道同樣圖形對準02/27 22:32

8^F→capsss:我怕在Wafer下面墊上濾紙會使得對準不準02/27 22:33

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