作者 bbdd203 在 PTT [ NEMS ] 看板的留言(推文), 共20則

Fw: [問題] 電晶體-閘極電壓越大,汲極電流越小消失

[ NEMS ]4 留言, 推噓總分: 0

作者: couty1234 - 發表於 2014/09/25 14:32(11年前)

1^F→bbdd203: 請查詢 Depletion-mode MOSFETs 推測大概channel存在gate09/28 16:15

2^F→bbdd203: 電場反而空乏掉channel09/28 16:15

3^F→bbdd203: 要重新確認一下你film的dope type跟你施加電壓才能確認09/28 16:22

[問題] 請問各位顯影時的問題

[ NEMS ]11 留言, 推噓總分: +5

作者: fukjohn5566 - 發表於 2014/07/28 19:58(11年前)

6^F→bbdd203: 晃動因為不晃的話會過顯 profile不好顯過頭會圓邊08/14 22:14

[問題] 想詢問熱蒸鍍

[ NEMS ]7 留言, 推噓總分: +2

作者: zxc1542003 - 發表於 2014/07/16 21:38(11年前)

4^F推bbdd203: 銅不管怎麼鍍附著力都不好吧..何況你還用膠帶撕..08/14 22:17

[問題] SiO2厚度和LIFT-OFF製程的關係

[ NEMS ]4 留言, 推噓總分: +4

作者: wqa98765 - 發表於 2013/08/08 16:41(12年前)

1^F推bbdd203:SiO2越厚越OK吧我METAL LIFT-OFF都用光阻厚度比超過10:108/09 02:03

[問題] 顯影液的選擇

[ NEMS ]16 留言, 推噓總分: +4

作者: Colula - 發表於 2013/05/02 00:47(12年前)

1^F推bbdd203:4620 我用過臺公司的EPD-1000 跟AD-10 都是TMAH 2.38%05/02 01:56

2^F→bbdd203:也是蠻便宜的不過沒顯過1 micron以下過05/02 01:57

[問題] 使用HF該注意的事情

[ NEMS ]36 留言, 推噓總分: +12

作者: bb0303 - 發表於 2013/03/29 22:00(12年前)

6^F→bbdd203:抗酸的圍兜兜上次我真的操作HF時被濺到圍兜兜上03/31 03:26

7^F→bbdd203:好在有穿不然真的要脫褲子擦葡萄酸鈣了..03/31 03:27

[問題] 乾式蝕刻silicon

[ NEMS ]8 留言, 推噓總分: +1

作者: tengyuan - 發表於 2013/03/28 22:32(12年前)

2^F推bbdd203:就我實驗室的同組人經驗不論任何氣體03/31 03:22

3^F→bbdd203:都會對光阻有物理性的表面"轟炸"03/31 03:23

4^F→bbdd203:形貌一定會變03/31 03:23

5^F→bbdd203:要看你光阻的用途如果只是拿來檔乾蝕刻03/31 03:24

6^F→bbdd203:建議乾脆乾蝕刻完了重新上一次? 做你後續考慮到光阻形貌03/31 03:24

7^F→bbdd203:的製程03/31 03:25

[問題] OLED做在可撓式基板上

[ NEMS ]1 留言, 推噓總分: +1

作者: w3179w - 發表於 2013/03/21 14:27(12年前)

1^F推bbdd203:PI? 大概可以到200度耐熱只是黃黃的...03/31 03:29

[問題] HF wet etch 會吃金屬??

[ NEMS ]5 留言, 推噓總分: +2

作者: questing - 發表於 2013/03/17 20:12(12年前)

4^F推bbdd203:原PO私信我我可以給你濕蝕刻萬用表但是禮拜一以後03/31 03:32

5^F→bbdd203:才能給我才會在實驗室XD03/31 03:32

[問題] 曝光第二層問題

[ NEMS ]5 留言, 推噓總分: +3

作者: CC0303 - 發表於 2013/03/12 14:52(12年前)

5^F推bbdd203:大概的SCALE是多少? 會不會是PROCESS WINDOW造成的?03/31 11:43

作者查詢 / bbdd203