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作者 SkyLark2001 在 PTT 全部看板的留言(推文), 共1072則

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[北美] 有人在溫哥華從事電機或製程工程師方面嗎

[ Oversea_Job ]31 留言, 推噓總分: +8

作者: HowardTVT - 發表於 2013/12/31 15:03(10年前)

26^F推SkyLark2001:那間公司網站上表明不收沒身分的,我認識的都靠關係進01/02 16:08

[北美] 化學MS的出路

[ Oversea_Job ]7 留言, 推噓總分: +4

作者: OverseaJob - 發表於 2013/12/20 16:22(10年前)

3^F推SkyLark2001:其實讀無機化學有項不錯出路是半導體的製程工程師，但12/21 07:47

4^F→SkyLark2001:外國人大多只收PhD...不過還是可以多看看畢竟半導體廠12/21 07:48

5^F→SkyLark2001:很多12/21 07:48

6^F推SkyLark2001:自己最好還是要自己多去修相關課程，才比較有幫助12/21 07:52

[好雷] 墮落天使李嘉欣是女神

[ movie ]16 留言, 推噓總分: +12

作者: takuminauki - 發表於 2013/12/12 16:22(10年前)

13^F推SkyLark2001:同意一樓，這部片可惜在於活在重慶森林的影子下12/13 11:09

Re: [問題] 硬考時間????

[ NEMS ]21 留言, 推噓總分: +3

作者: SkyLark2001 - 發表於 2013/12/05 17:09(10年前)

4^F→SkyLark2001:通常AZ selectivity在50-60之間，所以你這厚度差不多12/11 07:44

5^F→SkyLark2001:可行，硬烤就真的隨意了，不然你就上網隨便查一個12/11 07:45

6^F→SkyLark2001:recipe吧～看看其他人用AZ進DRIE做TSV的參數12/11 07:46

7^F→SkyLark2001:我自己是做500microns的TSV，AZ厚度是11microns~12/11 07:47

8^F→SkyLark2001:hardake時間忘了，好像100C 20分鐘在Oven裡面吧～12/11 07:48

9^F→SkyLark2001:但我有做Oxygen descum，而且我的11um後來發現厚度不12/11 07:50

10^F→SkyLark2001:夠，大約400多um就被吃完了....selectivity50-60只是12/11 07:50

11^F→SkyLark2001:一般預估，還要根據你的DIRE機台，參數，exposure are12/11 07:51

12^F→SkyLark2001:area等參數全面考量。所以才跟你說這東西根本沒標準12/11 07:52

13^F→SkyLark2001:答案12/11 07:53

17^F→SkyLark2001:原來你除了光阻之外還有oxide?那就更不用擔心12/13 08:15

18^F→SkyLark2001:oxide的selectivity可以到達120, 100nm的oxide就可以12/13 08:16

19^F→SkyLark2001:擋到12um的silicon。另外若你要先進HF就不用descum了12/13 08:17

20^F→SkyLark2001:或是你也可以用RIE來etch oxide, 比較方便但花錢12/13 08:19

[問題] 硬考時間????

[ NEMS ]4 留言, 推噓總分: +2

作者: kevinho0603 - 發表於 2013/12/03 15:27(10年前)

4^F→SkyLark2001:看你DRIE要多久。不一定要比softbake溫度高或久12/05 16:08

[問題] 負光阻的提供

[ NEMS ]9 留言, 推噓總分: +2

作者: popbear - 發表於 2013/11/25 21:50(10年前)

1^F推SkyLark2001:SU8，蠻普遍的，但要搭配Omnicoat才能lift-off12/05 16:06

2^F→SkyLark2001:omnocoat就相對少見了。其實不用omnicoat也可以12/05 16:07

3^F→SkyLark2001:用其他薄光阻代替，但參數要自己試12/05 16:07

4^F推SkyLark2001:若你可以降低厚度的話那就簡單，選AZ P462012/05 16:20

5^F→SkyLark2001:http://tinyurl.com/kpmc96m 裡面有官方參數, 第三頁12/05 16:22

6^F→SkyLark2001:開始就是28um用在金的電鍍上面.其實要更厚也應該辦的12/05 16:24

7^F→SkyLark2001:到。第九頁開始的參數是兩次塗布的參數，雖然厚度是2412/05 16:24

8^F→SkyLark2001:但把轉速調慢，最後總厚度要超過30um是可行，但是其他12/05 16:25

9^F→SkyLark2001:bake, 曝光顯影參數要全部重抓12/05 16:25

[北美] cover letter的問題

[ Oversea_Job ]12 留言, 推噓總分: +4

作者: Abltide - 發表於 2013/11/22 02:44(10年前)

6^F推SkyLark2001:我猜你把hiring manager誤認為HR了...其實Hiring11/23 07:35

7^F→SkyLark2001:manager通常就是有權力開缺，找人面試你，有最後決定11/23 07:36

8^F→SkyLark2001:權的人。你的Cover letter就是要寫給這種人看的11/23 07:36

9^F→SkyLark2001:所以hiring manager通常就是group leader/director11/23 07:38

[問題] 曝光製程問題

[ NEMS ]5 留言, 推噓總分: +2

作者: wade0222 - 發表於 2013/11/21 19:50(10年前)

2^F推SkyLark2001:正光阻的lift off有時會用到呀11/24 12:45

[問題] P家25mm F1.4 & O家45mm F1.8 抉擇

[ DSLR ]23 留言, 推噓總分: +14

作者: Binomial - 發表於 2013/10/10 01:30(10年前)

21^F推SkyLark2001:我兩顆都有，機身EPL5, 對焦兩顆沒有明顯差距10/11 07:29

22^F推SkyLark2001:我木眼，這兩支鏡頭畫質看不出大差異，比較明顯是景深10/11 08:00

23^F→SkyLark2001:真的取決於你想拍的東西的焦段。10/11 08:00

Re: [問題] 光阻犧牲層移除問題

[ NEMS ]6 留言, 推噓總分: +1

作者: SkyLark2001 - 發表於 2013/10/07 17:05(10年前)

2^F→SkyLark2001:這篇只是我的推測，沒有理論基礎支撐，可能是錯的，10/08 05:19

3^F→SkyLark2001:僅供參考。但多去找paper應該是正確的方向10/08 05:19

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