[問題] 曝光製程問題

看板NEMS作者 (MIAMI HEAT!!!)時間10年前 (2013/11/21 19:50), 編輯推噓2(2推 0噓 3→)
留言5則, 4人參與, 最新討論串1/1
想請問一下 如果材料在旋轉塗佈後 未烘烤，直接進行曝光 1. 薄膜裏頭還殘留著溶劑 那會發生怎麼樣的影響? 2. 曝光後，若是製程中不需要顯影，但也未硬烤 又會發生怎樣的影響? 請教各位大大!!! 感謝 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.123.121.75
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11/24 03:26, , 1F
因為不需要顯影，很好奇你後續製程內容...
11/24 03:26, 1F
推
11/24 12:45, , 2F
正光阻的lift off有時會用到呀
11/24 12:45, 2F
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11/25 09:55, , 3F
是用LIFT-OFF沒錯@@
11/25 09:55, 3F
推
11/26 14:09, , 4F
沒硬烤 lift off 會分離的不好
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11/26 18:48, , 5F
我先不考慮lift-off的問題，因為連塗佈都還是個問題@@
11/26 18:48, 5F
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