[新聞] 國產的SP光刻機到底牛在哪兒？消失

看板Stock作者時間5年前 (2018/11/30 19:20), 編輯推噓-20(10推 30噓 46→)
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https://www.leiphone.com/news/201811/8uGdqI4Z63FAipyX.html 最近“我國成功研制出的世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備”的新聞刷屏了。有 些人歡欣鼓舞，有些人不屑一顧。那么這個裝備到底實力如何，牛到底牛在哪兒？ 先回答大家最關心的兩個問題： 1、我們可以實現芯片徹底國產化了嗎？ 答：暫時還不行。 2、不吹不黑，這個裝備真的這么厲害嗎，還是只是吹牛？ 答：確實很厲害。 很多人只盯著新聞里22nm這個指標，其實大家要關注的是“365nm的光源，單次曝光線寬 可達22nm”。注意到我加黑的那幾個關鍵詞了嗎？22nm指標雖然很棒但是業界早就做過 了，到底哪里厲害呢？所以關鍵是用365nm的光源單次曝光做到22nm，懂點光學的就知道 這意味著什么：打破了傳統的衍射極限。 所以在我看來，這臺機器最大的價值是驗證了表面等離子體（SP）光刻加工的可行性。 這臺SP光刻機與ASML光刻機對比怎么樣呢？舉個不恰當的例子吧，這就像是初期的槍械 與最厲害的弓箭的對比。早期槍械，比如火銃，無論是射擊精度還是射擊距離都遠遠比 不上厲害的弓箭，但是如今的狙擊槍早已把弓箭甩開十萬八千里了，這就是原理性的勝 利。 要理解剛才說的這個“原理性的勝利”到底是怎么回事，我們首先得回顧一下以ASML為 代表的傳統光刻機是怎么做的。 上面是ASML光刻機簡單的原理圖，拋開復雜的監測設備不談，最核心的原理就是通過物 鏡系統將掩膜版上的圖案進行縮印成像。涉及到成像過程，就不得不考慮光的衍射極限 。即便拋開所有的幾何像差，由于衍射的作用，一個無限小的點成像后也會變成一個彌 散斑，被稱為“艾里斑”。因此實際光學系統成像的分辨率就是兩個艾里斑恰好能夠分 開的距離。 所以由于衍射效應，成像分辨率會受到限制，最終的分辨率取決于波長、數值孔徑等參 數，波長越小、數值孔徑越大分辨率則越高。所以ASML這些年來主要的研究方向就是利 用更短的波長（近紫外-深紫外-極紫外）、增大數值孔徑（更復雜的物鏡、液體浸沒） 。但是每進一步都變得更加艱難，對系統設計、加工裝配、誤差檢測等等諸多方面都提 出了更為苛刻的要求，成本也越來越高昂。 那么表面等離子體光刻又是怎么一回事呢？表面等離子體指的是一種局域在物質表面的 特殊的電磁波，隨著離開物質表面距離的增大迅速衰減，一般認為波長量級以上的區域 就不存在了。 更為神奇的是，雖然表面等離子體波是由其他電磁波激發的，但是波長會被極大地壓縮 ，而壓縮的比例取決于材料的電磁性質等參數。 這就意味著，利用表面等離子體波進行光刻時，從原理上就不在受到傳統衍射極限的限 制了。 在光刻機研制方面，我們一直有兩個選擇：沿用ASML的老路走一遍，還是另辟蹊徑通過 新原理彎道超車？我們國家目前兩個選擇都在做。而這臺SP光刻機的研制成功，就是讓 我們看到了彎道超車的可能性。其實從原理上，這簡直就不是彎道超車了，而是在別的 人還在繞山路的時候，我們嘗試著打了一條隧道……雖然還沒有完全挖通，但曙光就在 眼前了。 心得： 這個報道的是SP光刻機，是做光電器件類的器件和芯片，不是做手機和電腦芯片的。的 確不是通用芯片光刻機。但光電器件，也很重要不可或缺。 　　它的意義在於 　　中國在光電器件類的器件和芯片上領先。這個光電器件也很重要，光電技術，是電 子技術的重要組成部分。 　　那麼，中國大陸和西方，就形成了相互依賴。 　　也就是說 　　如果西方在通用芯片技術上，比如說在手機電腦芯片上，卡住中國，中國會兩眼一 抹黑，很糟糕。那么中國也可以在光電器件技術上卡住西方，那么美國和西方也會兩眼 一抹黑，很糟糕。 　　更重要的是 　　光電子技術，是電子技術的繼續發展，是未來的發展方向。是五年十年后人類迫切 需要的技術發展。所以，SP光刻機，是通用芯片光刻機的繼續發展。 　　也所以，對西方來說，五年十年后的光刻機，中國先人一步造出來了。也就是說， 中國的光刻機技術，實現了彎道超車，超到前面去了。 臺積電後市如何走？ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 27.10.5.229 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Stock/M.1543576815.A.891.html
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11/30 19:27, , 1F
...沒辦法商用,看看就好
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推
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這篇其實蠻精彩的，不管真假，都讓我更加了解產品原理，
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11/30 19:27, , 3F
謝謝分享
11/30 19:27, 3F
噓
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這篇根本虎爛
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365nm的光源做出22nm的溝線? 這是甚麼妖術?
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這篇連騙外行人都不行
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噓
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ID直接噓
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噓
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英國研究、支那製造、高麗起源、台灣報導
11/30 19:30, 8F
推
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支那出品 假貨七成
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11/30 19:31, , 10F
用365nm光源做出等同193nm光源的解析,但是還一句話:很厲害
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但沒有實用價值
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噓
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SB光刻機
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11/30 19:41, , 13F
傻逼光刻機
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噓
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洩漏國家機密 是不是拿綠卡
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文章知識內容有深度，但是形容的像是厲害了我的國一樣，
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讓人想吐
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噓
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牛你妹
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噓
11/30 20:03, , 18F
先量產化吧
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推
11/30 20:03, , 19F
所有IC 設計的軟體還在別人的，別說能國產。
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噓
11/30 20:05, , 20F
好笑了，最好曝光機光源跟機制隨你換
11/30 20:05, 20F
噓
11/30 20:07, , 21F
光阻不就也要全部砍掉重練
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11/30 20:09, , 22F
所以要買哪隻 說這麼多結論是？
11/30 20:09, 22F
噓
11/30 20:12, , 23F
靠邀，什麼表面等離子波....surface plasma講的好像外星
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11/30 20:12, , 24F
科技一樣
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噓
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還挖隧道勒 根本挖錯方向
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推
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認真問 這如果真的這麼屌未啥還用365nm做 直上193nm？
11/30 20:34, 26F
噓
11/30 20:39, , 27F
還不錯
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噓
11/30 20:54, , 28F
又在自慰了 卡美國?? 哈哈哈 只有浴缸能卡美國吧?????
11/30 20:54, 28F
噓
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中國人真的很迷信彎道超車www
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噓
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PRC掰掰
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噓
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噴了嗎
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噓
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唉……
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噓
11/30 21:42, , 33F
SB
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噓
11/30 21:59, , 34F
建議吹別的,先進曝光機太難了！連美日也都沒有
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噓
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不懂內容，但吹的明顯。
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噓
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litho如果有這麼簡單 市場就不會只有一家ASML獨大 而且
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還是荷商
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噓
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吹很大 但先量產在說
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整篇都很拗口
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推
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ASML的7奈米也是需要使用雙重(多重)曝光等配套技術實現
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的，中國的與荷蘭正在研發中的極紫光刻機水準相當，中
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國的已經通過驗收了，領先荷蘭半步，但是相關的配套技
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術仍處於落後，追趕上來只是時間問題，關鍵是這技術全
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球也只有兩個國家實現而已，難怪之前荷蘭會答應賣光刻
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機給中芯。中國實際光刻機是22奈米，再通過多重曝光達
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到10奈米。日本韓國台灣都是代工的命運，自主權不在自
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己手裡，台積電所有設備都是進口，他要生產任何晶片都
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需要設備商的許可，所以台積電80%都是外資，所以股東
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都是生產鏈的上游。中國已經建立了全產業鏈，現在是
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上中下游全產業鏈都在突破
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噓
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慢慢作夢
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11/30 22:49, , 52F
ASML用於5nm的新光刻機都快出貨了
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你就算幾年後用多重曝光達10nm也是垃圾
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何況實驗離商品化是無敵遠
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噓
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某人又開始各種吹
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西方20年前就研究EUV，到現在才算堪用
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噓
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支那偷了荷蘭技術，最好別用中興華為的設備
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噓
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科技版如果還有人相信這，那還真的挺危險的
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11/30 23:49, , 59F
有種叫中芯用這台
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別家的都拿去退
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11/30 23:50, , 61F
產業鍊勒，光阻都不會做是要鍊什麼？
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推
11/30 23:52, , 62F
沒OPC沒光阻，繼續騙啊
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11/30 23:53, , 63F
就隨便拿個物理的東西騙騙外行人
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11/30 23:54, , 64F
乾脆說瓦普引擎也在驗收中算了
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11/30 23:55, , 65F
的確有進步 這篇說中西互相依賴XD
11/30 23:55, 65F
推
11/30 23:56, , 66F
中國全產業鏈？ 叫華為回去下單啊
11/30 23:56, 66F
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11/30 23:56, , 67F
照裡應該是中或...
11/30 23:56, 67F
推
11/30 23:58, , 68F
馬英九還我牛.......
11/30 23:58, 68F
噓
11/30 23:58, , 69F
光刻機看得我頭好痛啊 曝光就曝光 講什麼光刻
11/30 23:58, 69F
推
12/01 00:02, , 70F
漢芯後繼者
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12/01 00:05, , 71F
中芯製程老大都開噴了，上面還在厲害了我的國 偉哉
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12/01 02:36, , 72F
全部專有名詞弄成中文，還得想一下XD
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12/01 02:37, , 73F
中國又在一次超英趕美了，喔，不超美趕外星了
12/01 02:37, 73F
噓
12/01 02:46, , 74F
。
12/01 02:46, 74F
噓
12/01 04:51, , 75F
假新聞可以關三天嗎?
12/01 04:51, 75F
推
12/01 07:37, , 76F
推，看的懂解釋
12/01 07:37, 76F
噓
12/01 09:06, , 77F
光電意思就是面板在用的低端貨ㄅ
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12/01 10:17, , 78F
用SPR或SERs破解繞射極限這種事原理大概也20年了
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12/01 10:18, , 79F
真有這種便宜好用的東西，為什麼原本技術領先的
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12/01 10:19, , 80F
各家廠商都會共同忽視，這幾年各種方案是不斷增加
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為什麼是當前方案？
12/01 10:20, 81F
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12/01 10:30, , 82F
前端產業的最頂尖人力差異不是很大，如果有什麼技術
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12/01 10:31, , 83F
是別人完全沒做，現在才有實驗機，很可能是別人都做
12/01 10:31, 83F
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12/01 10:32, , 84F
了，但是結果不好，或是只有一家突破關鍵瓶頸
12/01 10:32, 84F
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12/01 10:33, , 85F
就機率來說，不太可能發生在沒有實戰經驗的團隊
12/01 10:33, 85F
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12/01 10:35, , 86F
更何況I-line行得通，ArF也可以，最終還是領先的贏
12/01 10:35, 86F
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