Re: [新聞] 台積向英特爾宣戰 全面追趕10奈米製程已回收

看板Stock作者 (好好唸書吧!)時間12年前 (2014/01/22 17:28), 編輯推噓17(17023)
留言40則, 15人參與, 最新討論串4/5 (看更多)
補充一些基礎知識給一般外行的大眾: 晶片上的線路是用「光罩製程」做的。 先把晶片的線路圖畫在透明的板子上。(這個板子叫光罩) 然後在空白晶圓上塗「照到光就會變脆弱化學物質」。(此物質叫光阻) 然後在光罩和空白晶圓間放一個透鏡,然後打光。讓光罩上的線路圖縮小映在空白晶圓上 。此時光阻被光照到的部份就會變脆弱。把變脆弱的光阻洗掉後,再用化骨水腐蝕晶圓, 光阻變脆弱的部份下方的晶圓就被腐蝕掉。這工序叫「蝕刻」。 然後再用研磨機台把殘留的光阻磨掉。 這樣光罩上的設計圖就「烙印」在晶圓上了。 註: 光阻有正光阻和負光阻兩種,一種是照到光後變硬。另一種是照到光後變脆弱。 請看示意圖: http://img.tomshardware.com/us/2007/04/25/semiconductor_production_101/photolithography.jpg
或看動畫: https://www.youtube.com/watch?v=d9SWNLZvA8g
我說的是此動畫的20秒~35秒部份。 但是因為現在晶圓廠用的機台是用波長193奈米的光,當加工的精度到波長1/2以下後,光 的繞射、衍射這些「波動性」所產生的問題就會變得嚴重。 所以45奈米,甚至28奈米的晶片製造過程,就會有很多疑難雜症。 本討論串上一篇就是在講這個。 http://www.ptt.cc/bbs/Stock/M.1390230786.A.806.html 所以在更短波長的機台開發出來之前,硬做20奈米以下是很難以合理成本量產成功的XD 也不要看到外國廠商硬做了幾個20奈米以下的晶片就覺得他好厲害,搞不好他良率很悲劇 ...... 如果真的以合理的成本實現量產,買到便宜的產品後,要對血尿爆肝的工程師心存感謝。 -- 大家一起來股板長知識吧!! ˋ(°▽ ° )ˊ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 125.224.192.198

01/22 17:32, , 1F
推 雖然半知半解
01/22 17:32, 1F

01/22 17:34, , 2F
ㄟ~是不是說加工為比波長還短的時候,會造成波的互擾
01/22 17:34, 2F

01/22 17:35, , 3F
01/22 17:35, 3F
謝謝大大。 ※ 編輯: TanIsVaca 來自: 125.224.192.198 (01/22 17:42)

01/22 17:46, , 4F
長知識 感謝大大資訊提供
01/22 17:46, 4F

01/22 17:56, , 5F
那封裝有解嗎?
01/22 17:56, 5F

01/22 17:57, , 6F
台積那家封測廠似乎做不出來
01/22 17:57, 6F
這我就沒有去打聽了。

01/22 18:01, , 7F
哈~~我沒學過那些~看不太懂方程式啦~XD
01/22 18:01, 7F

01/22 18:08, , 8F
要GOOGLE 新一代3D IC封裝技術
01/22 18:08, 8F
http://www.i-micronews.com/upload/image/PG/wide%20IO%20vs%20FC%20PoP.jpg
這個趨勢讓晶圓廠有動機,順手把以前封測廠在做的工作也做了。

01/22 18:09, , 9F
波長193的那一段話...
01/22 18:09, 9F
歡迎幫此文章de bug.

01/22 18:19, , 10F
光阻是樹脂和有機溶劑和感光劑做的
01/22 18:19, 10F

01/22 18:21, , 11F
功能不是腐蝕,蝕刻才是,光阻是擋蝕刻和離子植入用
01/22 18:21, 11F

01/22 18:24, , 12F
曝光的光源會有干涉的問題,所以越小越難做
01/22 18:24, 12F

01/22 18:25, , 13F
跟波長比gate大没關系
01/22 18:25, 13F

01/22 18:27, , 14F
波長越短越不會產生干涉問題
01/22 18:27, 14F
感謝大大佛心指導。

01/22 19:19, , 15F
本篇有部分謬誤 但還是要推熱心
01/22 19:19, 15F

01/22 19:19, , 16F
光的波動性產生繞射與干涉 這高中應該就能理解了
01/22 19:19, 16F

01/22 19:21, , 17F
此外曝光製程不見得是空白晶圓 這再製程是重複操作
01/22 19:21, 17F
對啊,就像做千層蛋糕一樣,一層一層做。 ※ 編輯: TanIsVaca 來自: 1.168.26.4 (01/22 19:38)

01/22 19:55, , 18F
樓上說的謬誤應該是指正型跟負型那邊吧
01/22 19:55, 18F

01/22 20:02, , 19F
機台已經做出來了...曝一片要一小時,要價10億台幣
01/22 20:02, 19F

01/22 20:12, , 20F
長知識
01/22 20:12, 20F

01/22 20:35, , 21F
那光罩業更慘 一台好幾億的機台28奈米critical layer
01/22 20:35, 21F

01/22 20:37, , 22F
一天產出一隻手數不完,檢查機也是機台昂貴產出低
01/22 20:37, 22F

01/22 20:39, , 23F
除了台GG自有外其他家晶圓真的堪慮,光罩廠賺不到錢
01/22 20:39, 23F

01/22 20:40, , 24F
爾後先進製程昂貴的設備投資難以賺錢阿!
01/22 20:40, 24F

01/22 20:42, , 25F
光罩廠很慘 一家被母公司收購下市了
01/22 20:42, 25F

01/22 20:42, , 26F
另一家也沒啥績效 在那喘
01/22 20:42, 26F

01/22 20:48, , 27F
樓上說的應該都是二線廠啦!!下市那家直接用併購
01/22 20:48, 27F

01/22 20:48, , 28F
升級成一線廠XD
01/22 20:48, 28F

01/22 20:49, , 29F
光罩業的未來就在double pattern了!!
01/22 20:49, 29F

01/22 20:51, , 30F
雖然說良率很糟 但是就是得做 要卡位阿
01/22 20:51, 30F

01/22 20:59, , 31F
前二哥不爭氣 光罩廠投資不下去,整個惡性循環嚕!!
01/22 20:59, 31F

01/22 21:34, , 32F
沒錯,台G店應該也料到10nm將進入量子的世界
01/22 21:34, 32F

01/22 21:34, , 33F
到時候誰輸誰贏都不曉得甚至可能要大洗牌惹
01/22 21:34, 33F

01/22 21:35, , 34F
搞不好連台G店也被洗出場都說不定ˋ(°▽ ° )ˊ
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01/22 21:35, , 35F
說不定...
01/22 21:35, 35F

01/22 21:36, , 36F
台灣屆時科技廠大搬風.......只是基本原理還是相同罷
01/22 21:36, 36F

01/22 21:58, , 37F
要跳脫現有思維了...光學傳輸時代來臨
01/22 21:58, 37F

01/22 22:25, , 38F
光罩廠除了ebo外還有很多家啊,dnp、toppon台灣都有
01/22 22:25, 38F

01/22 22:25, , 39F
台灣光罩這種就別題了
01/22 22:25, 39F

01/31 17:21, , 40F
不是用193 immersion 嗎?
01/31 17:21, 40F
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