Re: [情報] 14nm進展不順 Intel下一代Broadwell跳票

看板PC_Shopping作者 (FT-ICR)時間11年前 (2013/06/03 18:36), 編輯推噓40(40推 0噓 14→)
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分享一下小弟的淺見 下一代 14nm 所用的曝光系統和之前完全不同 目前都是使用 193nm ArF 光源 搭配浸潤式微影 (immersion lithography) 解析度極限大約是 193*0.25/1.44=33.5nm (0.25=k1 1.44=NA 這邊物理就不細講了) 要做這個尺寸以下 需要使用雙圖樣微影技術 (double patterning lithography) 簡單來說 就是做一格圖案分兩次曝光 詳細請看 http://en.wikipedia.org/wiki/Multiple_patterning (文中提到 Intel 65nm 之後其實已經開始用此技術 如果要做到 15nm可能需要分三次) 但分n次曝光=做同樣量的晶圓需要 n倍時間 or n倍數量的機台 曝光機是FAB中最貴的機台 (一台約數千萬美金) ---------------------下面開始是重點--------------------- 以上的問題各公司都知道 於是約 10年前曝光機的龍頭廠商 ASML 開始發展EUV EUV 全名 Extreme ultraviolet lithography (極紫外光) 目前使用 13.5nm波長 產生方法是用高功率 CO2 laser去 轟擊錫粒 (詳細機制可能有點複雜) 其實它的波長已經可以算是 X-ray 但因為之前有人研究使用 hard X-ray(波長更短) 曝光結果最後失敗 (原因麻煩補充) 不想用類似的名稱所以選擇 EUV 拉回來 EUV使用13.5nm波長的光 是193nm 的1/14 解析度 CD=λ*k1/NA 雖然NA、k1沒有193nm好 但波長短很多 所以解析度還是可以好很多 目前 EUV的曝光機台只有預量產型 (NXE:3100) 問題出在光源功率 (出光亮)不夠 所以曝光時間會被拉長 (簡單來說就是產量不夠) 所以還不合乎生產成本 (曝光機很貴!) 現在還在研究如何讓功率更高 (約需要提升10倍) 以達到需求 附上一些相關的文章和reference: ASML: EUVL into production with ASML’s NXE platform http://tinyurl.com/ktysqh7 Wikipedia: Extreme ultraviolet lithography http://tinyurl.com/yln53s4 imec: Lithography options for the 31nm half pitch node http://tinyurl.com/kms6ysn ASML: EUV lithography: today and tomorrow http://tinyurl.com/mpv5kz7 ASML: EUV lithography into production at chipmakers ~update on ASML's NXE platform~ http://tinyurl.com/n2qwpnt Wikipedia: Next-generation lithography http://tinyurl.com/kj5phes 結論: Intel下個世代可能想用 EUV 但目前技術還不夠成熟 而 multiple pattering 成本過高 (定位相同的 CPU 價格1.5倍你想買?) 補充: 推文提到TSMC 其實全世界最高階的製程瓶頸都在這邊 Intel TSMC samsung 都有投資 ASML (股票分布 15% 5% 3%) 所以台積電也沒什麼好超越的 我猜曝光機 Intel還是會搶到最多 (文中提到的NXE:3100 今年只出貨11台XD) 感謝看完 歡迎來信討論~ (小弟只是對半導體有興趣的大學生 ) 麻煩前輩糾正&補充 ※ 引述《f91jacky (愛撫久)》之銘言： : 14nm進展不順 Intel下一代Broadwell跳票2015 : 多年來Intel一直按照其Tick-Tock的步伐穩步前進，今年是Intel的“Tock年”，剛剛發 : 布的Haswell處理器在製造工藝不變（和Ivy Bridge同為22nm）的前提下將架構升級。而 : 按照這個策略來看的話，Intel的Broadwell處理器將會於明年發布，架構不變，但將製造 : 工藝升級至14nm，其發布時間應該是明年二季度。 : 遺憾的是VR-Zone在今天爆料稱明年我們看不到Broadwell處理器了，能等到的只有升級版 : 的Haswell，Broadwell處理器要等到2015年才能出現。至於跳票的原因，有分析稱是 : Intel的14nm工藝進展不太順利，到明年根本無法滿足量產的需求，當然這只是猜測，具 : 體原因應該只有Intel自己才知道了。 : 筆者認為Intel放慢增長的步伐跟AMD也是有一定關係的，畢竟其推土機和打樁機都對 : Intel現有的處理器無法造成任何威脅，這讓Intel推陳出新的動力越來越小，而且消費者 : 也並不一定認可這種頻繁的升級策略。 : 下面我們來說說明年的升級版Haswell，雖然Broadwell跳票了，但其配套的9系晶片組將 : 會在明年和升級版Haswell共同推出。升級版的Haswell處理器在架構方面不會有什麼變化 : ，但是頻率必然會有所提升。 : 9系晶片組方面目前曝光的訊息還不多，可以確定的是它在8系晶片組的基礎上會增加 : SATA Express界面的支援，磁片速度達到了1GB/s，另外還會支援更大容量的存儲設備以 : 及硬體底層防毒。 : 至於升級版Haswell處理器的發布時間有可能會在明年的第二季度早期，但這只是猜測。 : from: http://news.mydrivers.com/1/265/265359.htm : ------------------------------------------------------------------------------ : Broadwell要等兩年嗎?! : INTEL: 多讓你一年，你能追多少呢! (菸) -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.109.55.232
推
06/03 18:40, , 1F
有點猛
06/03 18:40, 1F
推
06/03 18:42, , 2F
先別刪 我去叫我媽來看外星科技文章...
06/03 18:42, 2F
我第一次聽到也覺得很誇張...
推
06/03 18:44, , 3F
我去問問地下室的密卡登怎麼解決
06/03 18:44, 3F
推
06/03 18:44, , 4F
埃格斯特朗表示：
06/03 18:44, 4F
→
06/03 18:52, , 5F
TSMC 20nm比Intel 14nm先出來 的確是有可能的 某方面
06/03 18:52, 5F
→
06/03 18:52, , 6F
而言 的確是超車
06/03 18:52, 6F
→
06/03 18:52, , 7F
猛
06/03 18:52, 7F
→
06/03 18:56, , 8F
略懂
06/03 18:56, 8F
推
06/03 19:00, , 9F
聽說推了文就可以看懂1/4。
06/03 19:00, 9F
推
06/03 19:00, , 10F
先推再說
06/03 19:00, 10F
推
06/03 19:05, , 11F
徵求懂外星語的翻譯
06/03 19:05, 11F
推
06/03 19:09, , 12F
AMD桌上型處理器若給TSMC代工 應該很快就追上了
06/03 19:09, 12F
→
06/03 19:15, , 13F
GG 20nm 沒有finfet......
06/03 19:15, 13F
推
06/03 19:17, , 14F
推
06/03 19:17, 14F
推
06/03 19:29, , 15F
推
06/03 19:29, 15F
→
06/03 19:30, , 16F
略懂略懂
06/03 19:30, 16F
推
06/03 19:31, , 17F
如果沒推別人以為我看不懂
06/03 19:31, 17F
推
06/03 19:45, , 18F
原PO的ID是很威的儀器 在109的GRC?
06/03 19:45, 18F
完全猜中!! mo大也在做相關領域?
→
06/03 19:53, , 19F
打算要跨行!!
06/03 19:53, 19F
推
06/03 19:54, , 20F
話說 109不只一台 我以前的實驗室是在112校園那台
06/03 19:54, 20F
所以mo大以前是在IAMS?
推
06/03 19:57, , 21F
嘿嘿 就是在地下室啊 不過沒有真正玩過啦
06/03 19:57, 21F
地下室?? (不懂??)
推
06/03 20:05, , 22F
EUV1小時5片...Throughput以外要解決的問題還跟山一
06/03 20:05, 22F
→
06/03 20:06, , 23F
樣多。光罩 光阻 光源 機台安定性 價格...
06/03 20:06, 23F
感謝AX大補充 以上每樣都是另一個故事了XD ※ 編輯: FTICR 來自: 140.109.55.232 (06/03 20:18)
推
06/03 20:22, , 24F
好猛...看完才懂一點
06/03 20:22, 24F
推
06/03 20:30, , 25F
跟我想的一樣
06/03 20:30, 25F
推
06/03 20:35, , 26F
你說的hard X-ray是之前IBM在搞得 但現在已宣布失敗
06/03 20:35, 26F
→
06/03 20:35, , 27F
未來可能還有一些其他路 EX:nanoprint
06/03 20:35, 27F
→
06/03 20:37, , 28F
用e-beam先去寫一塊及高解析度板 之後直接大量印製
06/03 20:37, 28F
感謝fa大 nanoimprint我聽說過 不過不知道現在發展到哪裡 相關訊息好像不多 如果可以做到整片wafer一次壓印 throughput 可以超級大~
→
06/03 20:37, , 29F
新製程的曝光機台一台都要6000萬美元左右 約18億台幣
06/03 20:37, 29F
聽說未來量產型機台 (NXE:3300) 好像高於這個價格?
推
06/03 20:40, , 30F
沒想到電蝦會出現專業好文 @@!
06/03 20:40, 30F
※ 編輯: FTICR 來自: 140.109.55.232 (06/03 20:50)
推
06/03 20:54, , 31F
nanoprinting現在是有些group用在人體電路上拉
06/03 20:54, 31F
→
06/03 20:54, , 32F
晶圓邏輯電路方面的應用還不成熟
06/03 20:54, 32F
推
06/03 21:06, , 33F
有看沒懂，在下文組
06/03 21:06, 33F
→
06/03 21:32, , 34F
根本再看半導體.....
06/03 21:32, 34F
推
06/03 21:35, , 35F
樓下西平說他略懂
06/03 21:35, 35F
推
06/03 21:37, , 36F
略懂
06/03 21:37, 36F
推
06/03 21:38, , 37F
塊推啊不然人家以為我看不懂
06/03 21:38, 37F
推
06/03 21:40, , 38F
誇攏無 只好給推 不然別人說我們不懂XDDD
06/03 21:40, 38F
推
06/03 22:18, , 39F
聽說推了 就有外星人讓你一點就通
06/03 22:18, 39F
推
06/03 22:22, , 40F
嘎了給給
06/03 22:22, 40F
→
06/03 22:55, , 41F
intel的14nm約為TSMC的16nmFF其實時間差不多
06/03 22:55, 41F
推
06/03 23:24, , 42F
真的只有略懂....
06/03 23:24, 42F
推
06/03 23:25, , 43F
本來想PO的 讓你先PO了
06/03 23:25, 43F
推
06/04 00:23, , 44F
推一個 明天再詳細看Ref
06/04 00:23, 44F
推
06/04 01:13, , 45F
我居然看懂是中文和英文耶！看來我還蠻強的～
06/04 01:13, 45F
推
06/04 01:14, , 46F
電路設計組略懂路過
06/04 01:14, 46F
推
06/04 06:51, , 47F
一台一E 24~32E台幣不等...
06/04 06:51, 47F
推
06/04 07:49, , 48F
求中文翻譯
06/04 07:49, 48F
推
06/04 08:33, , 49F
現在作到這種高能射線顯影不會對人體有傷害嗎...XD
06/04 08:33, 49F
推
06/04 13:23, , 50F
看完我也懂了 這篇就是英文字跟中文字的組合嘛(誤
06/04 13:23, 50F
推
06/04 13:37, , 51F
大致看得懂~不過再深下去就GG了
06/04 13:37, 51F
推
06/04 17:05, , 52F
好文 略懂
06/04 17:05, 52F
推
06/06 22:53, , 53F
GG要到16才會用FINFET 至於20黃光機台.設備弟兄保重
06/06 22:53, 53F
推
11/23 22:51, , 54F
長知識推
11/23 22:51, 54F
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