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討論串[問題] 有關負型光阻KMPR曝光一事
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#1
[問題] 有關負型光阻KMPR曝光一事
推噓2(2推 0噓 6→)留言8則，0人參與, 最新作者allenwey (催眠...我很帥的！)時間12年前 (2011/10/11 00:06), 編輯資訊
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不知道這裡的各位，有人使用過KMPR這支光阻嗎？. 因為目前實驗碰到了怪事 = =. KMPR厚度約30um左右，曝光尺寸最小為13um的洞，. 泂跟洞之間最小間距約50um！. 製程條件如下：. 軟烤…85C 5min+110C 5min. 曝光…650mJ/contact mode. 曝後烤…1
(還有397個字)
#2
Re: [問題] 有關負型光阻KMPR曝光一事
推噓5(5推 0噓 5→)留言10則，0人參與, 最新作者allenwey (催眠...我很帥的！)時間12年前 (2011/10/14 18:34), 編輯資訊
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不好意思.... 想請問一般厚膜光阻，有關spin coater的參數要怎麼設定？. 才能得到較均勻的厚度？. 我的設定是：. 第一段轉速 800rpm, 1000rpm/s, 30sec. 第二段轉速 0rpm, 0rpm/s, 5-10sec. 第三段轉速 1300rpm, 1000rpm/s,
(還有9個字)
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