[問題] 厚光阻AZ4620曝光問題

看板NEMS作者 (Hoshiya)時間8年前 (2016/05/26 12:48), 編輯推噓1(109)
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現在正嘗試用兩層AZ4620 共15um膜厚製作8um線寬。 第一層 2000轉 / 60秒 軟烤110度/ 120秒 第二層 900轉 / 60秒 軟烤110度 / 480秒 以350w汞燈曝光20秒 => 過曝,但8um線寬也差不多8um 改曝15秒後 => 曝光量不足 請問這樣是否是第二層光阻未烤乾? P.S. 目前黃光只有hotplate 另外想請問4620用曝後烤,會不會有助於光阻的垂直度? -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 140.115.115.154 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/NEMS/M.1464238097.A.5ED.html

05/26 17:57, , 1F
1500轉 應該就有12~40um了 為何要double coating呢?
05/26 17:57, 1F

05/26 17:57, , 2F
打錯 12~14um
05/26 17:57, 2F

05/26 17:59, , 3F
AZP4620曝後烤 除非你的參數抓非常準
05/26 17:59, 3F

05/26 17:59, , 4F
不然曝後烤完 顯影就哭哭了
05/26 17:59, 4F

05/26 18:01, , 5F
我自己的經驗是 AZP4620曝後烤會讓圖形毀掉
05/26 18:01, 5F

05/29 01:48, , 6F
我單層轉出來的比datasheet少很多,所以才用兩層
05/29 01:48, 6F

05/30 10:25, , 7F
AZP4620有型號 你該不會買用到稀一點的型號吧
05/30 10:25, 7F

05/30 10:26, , 8F
你的光阻黏制度 有跟 金都念慈庵川貝枇杷膏一樣嗎
05/30 10:26, 8F

05/30 10:26, , 9F
要有點黏稠喔 不可以太稀 不然轉出來就是比較薄
05/30 10:26, 9F

06/04 14:04, , 10F
應該是蠻稠的
06/04 14:04, 10F
文章代碼(AID): #1NHe0HNj (NEMS)
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