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討論串[問題] 厚光阻AZ4620曝光問題
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[問題] 厚光阻AZ4620曝光問題
推噓1(1推 0噓 9→)留言10則，0人參與, 最新作者jaychou515 (Hoshiya)時間8年前 (2016/05/26 12:48), 編輯資訊
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現在正嘗試用兩層AZ4620 共15um膜厚製作8um線寬。. 第一層. 2000轉 / 60秒. 軟烤110度/ 120秒. 第二層. 900轉 / 60秒. 軟烤110度 / 480秒. 以350w汞燈曝光20秒 => 過曝，但8um線寬也差不多8um. 改曝15秒後 => 曝光量不足. 請問這
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#2
Re: [問題] 厚光阻AZ4620曝光問題
推噓0(0推 0噓 0→)留言0則，0人參與, 最新作者SkyLark2001 ( )時間8年前 (2016/05/28 01:43), 8年前編輯資訊
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http://photoresist.com/wp-content/uploads/2010/11/az_p4620_photoresist.pdf. 最後一頁是轉速厚度對照表。 AZP4620厚度要2x以上轉兩層才叫帥. 15um以下轉兩層是自找麻煩. 另外spin duration不需要到60秒
(還有380個字)
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