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作者 alin 在 PTT [ PCSH91_305 ] 看板的留言(推文), 共5則

限定看板：PCSH91_305

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[轉錄]英特爾展示45奈米和32奈米晶片

[ PCSH91_305 ]0 留言, 推噓總分: 0

作者: nfsong - 發表於 2007/09/24 15:53(16年前)

26^F推alin:high K 可以有效抑制漏電流的問題還可降低所需電壓09/20 11:18

27^F→alin:樓上 high K應該已經可以用了只是技術要複雜的多09/20 11:20

28^F→alin:內文有提到 GATE要改成METAL了光這就點就是個問題09/20 11:21

30^F推alin:因為SiO2 已經不能再薄了目前2nm大概已接近極限09/20 12:45

31^F→alin:High K 可以在較厚的情況下獲得和SiO2一樣的效果09/20 12:46

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