[新聞] Pat Gelsinger:英特爾委外代工不可缺, Intel 18A 不用 High-NA EUV
原文標題:
Pat Gelsinger:英特爾委外代工不可缺, Intel 18A 不用 High-NA EUV
原文連結:
https://bit.ly/3UhMSct
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發布時間:
January 31, 2024
※請以原文網頁/報紙之發布時間為準
記者署名:by Atkinson
※原文無記載者得留空
原文內容:
日前,英特爾執行長 Pat Gelsinger 在財報會議上回應了分析師有關外部代工與 High-NA
EUV 應用的提問時表示,外部代工仍是英特爾不可或缺的一環。另外,已經獲得業首套 Hig
h-NA EUV 曝光機的英特爾,將會在比Intel 18A 節點製程更先進的製程中來使用。
外電報導,Pat Gelsinger 表示,雖然未來外部代工量會減低,但其仍是英特爾晶圓製造發
展路線中不可或缺的一部分。他強調,隨著自家晶圓廠 「4 年 5 節點」 策略的穩健發展
,自家的製程技術競爭力也隨之提升,這使得英特爾未來將會有更多產品採用自有晶圓廠製
造。
但是即便如此,使用外部代工廠來進行委外代工,也一直將是英特爾發展策略的重要部分。
所以,英特爾將繼續保持使用委外代工的推進,這樣研發團隊就始終可以使用業界領先的技
術來生產產品。而在被問及 High-NA EUV 霧光機應用的問題時,Pat Gelsinger 則是強調
,不會在 Intel 18A 節點製程使用 High-NA EUV 曝光機,而是留到下一個更先進的節點製
程上。
Pat Gelsinger指出,英特爾不會將 High-NA EUV 曝光機導入 Intel 18A 節點製程的原因
,在於到入時的風險。Pat Gelsinger進一步表示,在重新將英特爾的內部工製程技術推至
世界領先的過程中,風險管控是重要一環,這原因延遲了High-NA EUV 曝光機的應用。Pat
Gelsinger 還確認,將在 2 月 21 日首次舉行的 IFS Direct Connect 活動上,預計將透
露更多有關 High-NA EUV 曝光機應用的資訊。
(首圖來源:科技新報攝)
心得/評論:
「Pat Gelsinger 表示,雖然未來外部代工量會減低」
這個是在壯膽,還是真的?
難道今天台積跌這個?
看來是鐵了心要擁抱晶圓廠了!
2021開始4年內5node真的有順利?
我怎覺得2025年快到了 還在intel4
Intel3 / 20A /18A 在哪邊?
※必需填寫滿30正體中文字,無意義者板規處分
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