[情報] 台積電官宣6nm工藝!7nm加強版 也有極紫
台積電官宣6nm工藝!7nm加強版 也有極紫外光刻
http://news.mydrivers.com/1/623/623247.htm
這幾年,曾經執行業牛耳的Intel在新工藝方面進展遲緩,10nm工藝遲遲無法規模量產,
一個很關鍵的原因就是對技術指標要求高,投產難度大。
而在另一方面,台積電、三星卻是一路高歌猛進,除了技術方面的突破,還採取了更靈活
的戰術,降低新工藝技術難度,並且每次稍加改進就拿出一個新版本,讓人目不暇接。
比如台積電的16nm是個重要節點,12nm則是在其基礎上升級優化而來。三星就更亂了,除
了14nm、10nm、7nm、5nm這些升級力度比較大的,還有11nm、8nm、6nm、4nm等一系列過
渡版本。
近日,台積電宣佈5nm EUV工藝已經開始試產,相比7nm可將核心面積縮小45%,性能則可
提升15%,同時三星5nm EUV工藝已經設計完畢,相比7nm可將功耗降低20%,性能提高10
%。
現在,台積電又正式宣佈了6nm(N6)工藝,在已有7nm(N7)工藝的基礎上大幅度增強,號稱
可提供極具競爭力的高性價比,而且能加速產品研發、量產、上市速度。
台積電7nm工藝有兩個版本,第一代採用傳統DUV光刻技術,第二代則是首次加入EUV極紫
外光刻,已進入試產階段,預計下一代蘋果A、華為麒麟都會用。
新的6nm工藝也有EUV極紫外光刻技術,號稱相比第一代7nm工藝可以將晶體管密度提升18
%,同時設計規則完全兼容第一代7nm,便於升級遷移,降低成本。
台積電6nm預計2020年第一季度試產,適合中高端移動芯片、消費應用、AI、網絡、5G、
高性能計算等。
Intel:14nm我改進了一次又一次,也只是叫14nm+、14m++,台積電、三星你們太過分了
……
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