[問題]關於MEMS製程變異度資料

看板NEMS作者 (洋為中用)時間16年前 (2008/07/19 15:06), 編輯推噓2(201)
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最近在做一些MEMS sensor性能模擬與分析,需要下列資料: (1) silicon (crystal & poly) 線寬以及深度的uncertainty (2) silicon (crystal & poly) 的材料特性uncertainty,包含 Young's modulus, Poisson ratio, density等 不知道版友們提否提供相關資訊(數據、paper或database website) 感激嘍~ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 218.32.7.26

07/19 15:29, , 1F

07/19 15:30, , 2F
可以去找他的reference來看
07/19 15:30, 2F

07/19 22:07, , 3F
那再請問,etching線寬的最低值一般是?um
07/19 22:07, 3F
文章代碼(AID): #18WP9eWo (NEMS)
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