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討論串[請益]濺鍍鋁膜
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#3
Re: [請益]濺鍍鋁膜
推噓0(0推 0噓 0→)留言0則，0人參與, 最新作者aaggee (P幣又輸光了...)時間17年前 (2008/10/25 23:21), 編輯資訊
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氬氣通入約10~15 sccm. 將工作壓力控制在1 m Torr. 功率80~100W是OK的. 另外，直流與RF的機台會有所不同. ~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~‵. 這叫電漿，一般而言在靶材附近亮度最亮. 原理是
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#2
Re: [請益]濺鍍鋁膜
推噓1(1推 0噓 1→)留言2則，0人參與, 最新作者kevin21715 (小光)時間17年前 (2008/10/25 21:13), 編輯資訊
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我沒在做 但我覺得你可以朝兩個方向看看. 第一 通常濺鍍時離子與空氣分子撞擊會發光. 你要從玻璃罩看看chamber有沒有光束打到基板. 第二 你在低瓦數時 真空度先不能太高 確認離子有打出(就也是有看到發光). 等到你確定有離子打出(發光) 再將真空度控制在濺渡範圍. 請高手指正^^. --. ※
#1
[請益]濺鍍鋁膜
推噓4(4推 0噓 4→)留言8則，0人參與, 最新作者app13 (QQ)時間17年前 (2008/10/25 17:53), 編輯資訊
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最近需要濺鍍(sputter)鋁膜(厚度約50nm). 原先實驗室有一塊表面有變黑色的鋁靶，有用砂紙把它磨到表面變成有金屬光澤了. 不過濺鍍的結果發現沒鍍上去. 所以後來買了一塊新的鋁靶. 但不論新舊鋁靶. 每次濺鍍的功率都大概開80~100瓦，鍍了2~10分鐘，真空度也都有到10的-5次方. 鍍了
(還有28個字)
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