Re: [爆卦] 中芯科技宣布就算沒有光刻機照樣造芯片
"改造之後的14nm晶片將比原來的功耗降低57%,邏輯面積小63%,SOC面積減少55%,這換
算下來,正是7nm晶片的數據,雖然是通過「N+1」工藝作出的是「偽7nm晶片」,但這也
意味著,中芯國際已經正式成為全球第三家掌握10nm以下工藝的晶片企業"
我來幫大家做一下閱讀理解 文章的意思並不是說他們擁有7nm的技術
而是他們有一種技術可以對14nm的晶片進行改造 將所有性能進行提高 相當於改造
後的14nm晶片具有傳統7nm晶片的性能
這種將已有晶片性能提升的方法 他們稱之為N+1工藝 標題是有些誤導 但是仔細
閱讀還是可以理解的
不過換個角度想 如果原本已經掌握7nm技術的公司 再引入這樣子的方法 就能夠
再進一步提高晶片的性能
※ 引述《a1106abc (HP都陷入內戰中)》之銘言:
: 如題
: 光刻機就是台灣黃光製程的曝光機
: 中芯宣布有一個N+1技術能夠不用曝光機
: 做出7nm製程
: https://i.imgur.com/66uWci6.jpg
: 全文有興趣的可以去google
: 至於N+1技術是什麼?
: https://i.imgur.com/Q2hLzLM.jpg
: 大概是用手刻吧
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 128.12.122.207 (美國)
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Gossiping/M.1597168694.A.EF1.html
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我的理解是這個數字指的是集成電路中MOSFET晶體管中柵極的寬度 照他們的意思是沒
有把這個寬度進行縮小的 而是透過其他的方式提高晶體管的性能 我的確非行內
但對於製程技術是有一定了解的 歡迎討論指正
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※ 編輯: chemistry123 (128.12.122.118 美國), 08/12/2020 02:39:24
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