[討論] 28nm 與0.13um 類比設計考量

看板Electronics作者 (費里曼)時間6年前 (2019/04/05 18:29), 編輯推噓16(16018)
留言34則, 14人參與, 6年前最新討論串1/1
請問各位前輩28nm 與0.13um 類比設計考量 有何不同,28nm上面必須特別注意什麼 感謝 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 114.136.186.54 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Electronics/M.1554460189.A.7D0.html

04/05 19:07, 6年前 , 1F
注意gate length不能小於28nm
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04/05 19:12, 6年前 , 2F
注意schedule不要delay,老闆會不爽
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04/05 19:33, 6年前 , 3F
leakage , mismatch, Vov ,layout 需特別注意的嗎?
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04/05 21:24, 6年前 , 4F
這個問題真好 先念個書吧 by 外行人
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04/05 22:02, 6年前 , 5F
28nm... 這邊應該沒幾個碰過
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LPE, WPE, LOD, device mismatch
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04/05 22:26, 6年前 , 7F
請問J大 若MOS操作在 sub threshold ,run mismatch的結
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04/05 22:26, 6年前 , 8F
果可信嗎?已經無法用手算驗證 感謝
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04/05 22:44, 6年前 , 9F
28nm要考量的東西多太多,先找書看建立基礎,比較重要
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的是漏電,變異,佈局繞線的寄生效應與電源管理
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04/05 22:46, 6年前 , 11F
然後跑模擬一定要跑局部最差點的蒙地卡羅,
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另外時間管理要做好,不然很容易做不完
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04/05 22:49, 6年前 , 13F
這裡有人做的 (不是我) 不然問教主 XD
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04/05 22:49, 6年前 , 14F
真的先看書先 XD 差蠻多的 我只是一邊打醬油的都知
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04/05 22:49, 6年前 , 15F
道呢~
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04/06 16:50, 6年前 , 16F
請參考 貴公司/貴校由製程單位提供的Design Rules XDD
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04/06 16:52, 6年前 , 17F
不然問問你們那邊的資深人員或學長姐
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04/06 22:40, 6年前 , 18F
$$$$$
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04/07 15:10, 6年前 , 19F
基本上mismatch model 還是在vth and beta terms in su
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b region
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04/07 15:11, 6年前 , 21F
你還是要知道在電路上運作方法,再去思考這兩項的影響
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04/07 15:12, 6年前 , 22F
舉例來說,in diff. pair input of opamp , 他的重點會
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在於vth
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04/07 15:13, 6年前 , 24F
所以mismatch model 是可相信的
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04/07 15:13, 6年前 , 25F
另外提醒你在28nm , design 的時候就要思考layout 方法
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04/07 15:14, 6年前 , 26F
而且drc runset 會不只一個
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04/07 21:25, 6年前 , 27F
注意不能出錯不然光罩很貴
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04/08 13:19, 6年前 , 28F
可以問一下局部最差點是什麼意思嗎?感謝
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04/09 17:39, 6年前 , 29F
MOSFET 不允許轉 90 度
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04/09 18:22, 6年前 , 30F
htt ps: // ppt .cc / fYDabx
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04/09 18:23, 6年前 , 31F
這裡有詳細描述全局跟局部蒙地卡羅介紹
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04/12 03:11, 6年前 , 32F
layout很酷
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04/12 12:11, 6年前 , 33F
Variations...Layout
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04/12 18:04, 6年前 , 34F
感謝 a大 , 45n 的文件就是這樣,沒解說看不大懂
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文章代碼(AID): #1SfouTVG (Electronics)