[問題] NOR flash 的 program 方式
請教版上高手
最近看資料遇到一些問題
關於 NOR and NAND flash, program/erase 方式
NOR program 使用 channel hot electron injection
NAND program 是使用 F-N tunneling
而 erase 方式 NOR and NAND 均是用 F-N tunneling erase
想請教
1. 為何 NOR flash program 方式不用 F-N tunneling ?
2. F-N tunneling 在 tunnel oxide 需較大跨壓, 理論上較容易對 oxide 造成
damage, 而 NAND 是用此方式, NAND 對 cycling 後的品質要求度較低嗎?
謝謝
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