Re: [問題] DW跟DI在實驗裡的主要差別?
※ 引述《ken415202 (riam4152)》之銘言:
: 最近看了一篇PAPER
: 裡面有分DW跟DI要做的部分
: 然後我問了一下實驗室裡的學長
: 他回答我說:你用DW跟DI沒差啦,對實驗影響又不大,你就用DW做就好了啊
: 我想問的是如果蒸餾水跟去離子水相差不大
: 就全部用蒸餾水不就好了?
: 那PAPER幹嘛把這兩個要做的步驟分開?
半導體實驗研究清潔都是使用去離子水
鍍膜的時候需要特別用到這種超乾淨的水清洗
因為表面的乾淨影響了整個薄膜的品質
我會使用蒸餾水的情況
假設將試片拿去濕蝕刻 蝕刻完以後要去拍SEM看結構
這時候就可以用簡單的蒸餾水直接將殘餘的化學溶液沖掉就可以
我不會特別去用DI水去沖洗 就算去沖洗 也是多此一舉
不過哪一篇paper可以貼上來大家看一下嗎?哪種類型的呢?
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 123.204.20.125
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喔 誤會我意思了 我修幾個字先...
※ 編輯: gamesame7711 來自: 122.122.250.114 (03/26 21:44)
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討論串 (同標題文章)
本文引述了以下文章的的內容:
完整討論串 (本文為第 2 之 2 篇):