Re: [製程] sol-gel 作SiO2薄膜的厚度
※ 引述《wuchengyi (巫婆婆)》之銘言：
: 目前看到的sol-gel SiO2薄膜都接近100nm以上到幾um，
: 想知道是否可以利用此法製作SiO2 的10nm薄膜？
不可能...
首先, sol-gel要製備薄膜通常都是利用spin-coating的方式,
利用提高轉速來降低厚度, 可是轉速提高到一定程度時,
膜就會很容易無法形成連續相, 也就是不能成膜,
此外, sol-gel process過程中solvent的揮發也會造成孔洞產生
所以sol-gel製備出來的膜多為孔洞膜, 若厚度不夠根本無法成膜,
所以要製備超薄(100nm以下)的薄膜,
現在比較可靠的技術多還是利用PVD, CVD的方式達成
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