[新聞]英特爾看淡曝光機對半導體重要性,外資下修 ASML 目標價
英特爾看淡曝光機對半導體重要性,外資下修 ASML 目標價
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2023 年末,曝光機大廠 ASML 向英特爾運交機首套 High-NA EUV 曝光機,型號為
TWINSCAN EXE:5000。業界普遍認為,High-NA EUV 將對先進晶片開發和下代處理器生產
發揮關鍵作用。不過最近又有變化,各晶圓代工廠都在減少依賴 High-NA EUV,延後導入
時間。特別是英特爾董事發言,讓市場對 High-NA EUV 前景產生更多疑問。
Wccftech 報導,近期有投資機構下調 ASML 目標價,從 795 歐元降至 759 歐元,代表
每股獲利減少約 5%,因 High-NA EUV 市場需求放緩,同時調低 ASML 2026 和 2027 年
營收預估。但 ASML 股票投資評等沒有變仍為「買入」。
照不願意透露姓名的英特爾董事說法,新電晶體設計如 GAAFET 和 CFET,可降低曝光機
重要性。這些設計是從四面包裹柵極,更偏用蝕刻去除多餘材料,而不是增加晶圓曝光時
間以縮小電路尺寸。晶片生產時橫向重要性日益增加,High-NA EUV 重要性就沒那麼重要
了。
長遠看,人工智慧(AI)浪潮帶動晶片發展,投資機構對 ASML 產品的長期需求仍保持樂
觀,因晶片普遍採用最新半導體製程,市場對曝光設備的需求仍處於上升趨勢。ASML 7
月 16 日公布 2025 年第二季財報,屆時可了解營收狀況與未來營收變化,了解接下來全
球曝光機市場展望。
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