[新聞] 不用EUV也能直上5奈米,鎧俠與合作夥伴欲先導入量產

看板Tech_Job作者ljsnonocat2 (凡所有相皆是虛妄)時間4年前 (2021/10/23 00:40)推噓8(9推 1噓 9→)

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不用 EUV 也能直上 5 奈米，鎧俠與合作夥伴欲先導入量產 https://technews.tw/2021/10/22/can-go-straight-to-5nm-without-euv/ 半導體製程技術進入 10 奈米節點後，EUV 曝光設備是不可或缺的步驟，但 EUV 曝光設備每台價格高達 1.5 億美元，且產量有限，讓晶片生產成本驟升。為解決問題，日本記憶體大廠鎧俠（Kioxia）聯合合作夥伴開發新技術，可不使用 EUV 曝光設備就直達 5 奈米。日本媒體報導，鎧俠從 2017 年開始與半導體設備廠佳能及光罩、範本等半導體零組件製造商 DNP 合作，在三重縣四日市鎧俠工廠研發奈米壓印微影 (NIL) 量產技術。鎧俠已掌握 15 奈米量產技術，目前正在進行 15 奈米以下研發，預計 2025 年達成。相較已商用化的 EUV 技術半導體製程，鎧俠表示 NIL 技術減少耗能，且大幅降低設備成本。原因在 NIL 技術微影製程較單純，耗電量可壓低至 EUV 技術 10%，並讓設備投資降至僅 EUV 設備 40%。EUV 曝光設備由荷蘭商 ASML 獨家生產，不但價格高昂，且需許多檢測設備配合。雖然 NIL 技術有許多優點，但現階段量產仍有不少問題有待解決，包括更容易因灰塵造成瑕疵。對鎧俠來說，NAND 零組件因採取 3D 立體堆疊結構，更適應 NIL 技術製程。鎧俠也表示，已解決 NIL 基本技術問題，正在最佳化量產技術，希望較其他競爭對手率先導入 NAND 生產。若鎧俠成功引進 NIL 技術，可望彌補投資設備競賽的不利局面，又符合減少碳排放的需求。據 DNP 說法，NIL 量產技術電路微縮程度可達 5 奈米節點，DNP 從 2021 年春天開始就據設備規格值模擬。DNP 透露，半導體製造商對 NIL 量產技術詢問度增加，顯示不少廠商寄予厚望。另一個合作夥伴佳能致力將 NIL 量產技術廣泛用於製作 DRAM 及 PC 用 CPU 等邏輯晶片設備，供應更多半導體製造商，將來也希望用於手機應用處理器等最先進製程。 --- 不曉得真的有可能實現奈米級的量產嗎? -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 219.68.89.51 (臺灣) ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1634920858.A.453.html

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zzz499

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flower42

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jkl852

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