[請益] PVD設備 濺鍍 材質限制
請問 各位先進
我司有一台設備現在鍍膜成分主要是鍍氮化鈦或是氮化碳薄膜。
設備功能有弧靶、柱靶、中高頻電源供應器。
如將設備把靶材更換、氣氛更換,是否可以拿來鍍透明導電膜Al2O3、AZO、ITO之類的?
設備需要做什麼修改嗎? 設備工程師說這是不可能的??? 卻回答不出原因。
是否有設備商或是有經驗的相關先進,可以請益。
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