[新聞] 超狂!EUV技術再助攻 台積電2奈米最新進度曝光
超狂!EUV技術再助攻 台積電2奈米最新進度曝光
全球晶圓代工龍頭台積電面對新冠肺炎疫情肆虐,客戶出貨需求恐怕大減的情況下衝擊,
仍繳出歷年來第一季最好表現,台積電官網21日上架股東會年報,內容指出台積電去年市
占率達52%,年度總營收創10年來新高紀錄,還提到3奈米製程發展情況,2 奈米製程技術
更是首度被提及。
年報內容提到,台積電7奈米製程技術(N7)在去年邁入量產的第2年,在行動裝置、高效能
運算(HPC)、物聯網(IoT)和車用電子等眾多產品中持續被廣泛採用。台積電表示,去
年推出的7 奈米強效版(N7+)製程技術亦領先,導入極紫外光(EUV)微影技術進行量產
,整個N7家族營收占全年晶圓銷售金額的27%。
至於6 奈米(N6)製程技術剛於今年第一季進入試產階段,並成功進一步擴展了N7 家族
的未來性。5 奈米(N5)製程技術已廣泛採用EUV 技術,將於今年上半年開始量產。作為
業界最先進的解決方案,N5 製程技術已進一步擴大台積電的客戶產品組合,同時擴增潛
在市場。
至於為外界所關注的3奈米製程,將是繼N5 後另一全節點提升的製程,並將於推出時提供
業界最佳的功耗、效能以及面積(PPA)的製程技術。
此外,台積電也提到,當公司採用三維(3D)晶片堆疊解決方案研發3奈米製程之際,也在
去年就領先半導體業界進行2 奈米製程技術開發,並針對2 奈米以下製程繼續探索性研究
。
台積電表示,透過微影技術,去年研發重點在於5 奈米的技術轉移、3 奈米技術的開發及
2 奈米以下技術開發的先期準備。5 奈米技術已經順利地移轉,研發單位與晶圓廠合作排
除極紫外光(EUV)微影量產問題。針對3 奈米技術的開發, EUV技術展現優異的光學能
力,與符合預期的晶片良率,研發單位正致力於EUV技術,以減少曝光機光罩缺陷及製程
堆疊誤差,並降低整體成本。
台積電表示,今年在2 奈米及更先進製程上將著重於改善極紫外光技術的品質與成本。
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