[請益] 5、7nm的光阻跟14nm的不同嗎?

看板Tech_Job作者 (別當Google不存在)時間6年前 (2019/12/02 20:02), 6年前編輯推噓6(191330)
留言62則, 38人參與, 6年前最新討論串1/2 (看更多)
因為離開晶圓廠有點久了 而且以前也不是黃光的 請教的問題可能很瞎 請多包涵 想請問7nm跟14nm用的光阻會不同嗎? 我以前的想法是跟機台比較有關 精度差異大的的機台可能搭配的光阻不同 或是我也是對的,因為7nm是跳了一個難度gap 只能適用全新技術的photo機台 理所當然光阻也不同? -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 123.241.131.60 (臺灣) ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1575288150.A.0DE.html

12/02 20:04, 6年前 , 1F
不告訴膩雷。
12/02 20:04, 1F

12/02 20:05, 6年前 , 2F
12/02 20:05, 2F

12/02 20:25, 6年前 , 3F
高中物理
12/02 20:25, 3F
這位你在晶圓廠待過嗎?我相信絕對不是高中物理

12/02 20:27, 6年前 , 4F
想知道這的通常是對岸人士,不過黃光這麼多道,同node就
12/02 20:27, 4F
很高興你有高度警戒心,但我真的台灣人XD 我也堅決反共反獨裁,支持改國名為台灣

12/02 20:27, 6年前 , 5F
有不同光阻了,你還是直接問用每道用哪種光阻比較快
12/02 20:27, 5F
我只是看到stock版文章,然後自己想了一下發現相關知識已經忘光光 google只能找到會的(基礎的),所以跑來問一下 通過你的回答我知道了,主要是看做哪一道對吧 所以跟機台無關嗎?

12/02 20:36, 6年前 , 6F
光阻有很多種,從前段到封裝各個製程都有不一樣的,光是
12/02 20:36, 6F

12/02 20:36, 6年前 , 7F
封裝就有好幾種
12/02 20:36, 7F

12/02 20:37, 6年前 , 8F
線路越細要求解析度肯定更高,其他請專業的前輩回答
12/02 20:37, 8F

12/02 20:40, 6年前 , 9F
你真的人認為在這能問到答案嗎
12/02 20:40, 9F
我認為能啊,不然幹嘛這裡問 或者可以請你介紹一個能問到答案的其他地方嗎? 而且我的重點只想知道跟機台有沒有關係而已XD

12/02 20:41, 6年前 , 10F
以前是小整合的認知,光源、解析度、要檔蝕刻的量、正負
12/02 20:41, 10F

12/02 20:41, 6年前 , 11F
光阻都會用不同光阻,這開發的時後都會評估
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12/02 20:42, 6年前 , 12F
底片有分感光速度,7nm跟14nm製程光阻就算成分種類一樣
12/02 20:42, 12F

12/02 20:42, 6年前 , 13F
,配比也會有差異
12/02 20:42, 13F

12/02 20:51, 6年前 , 14F
當然有差異,跟車零件的精細度是一樣的,只是一個是車刀
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12/02 20:51, 6年前 , 15F
硬度與精細度,一個是解析度與照射時間
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12/02 20:53, 6年前 , 16F
不同製程要求的解析不同,感光成分一定也會有所調整
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12/02 20:53, 6年前 , 17F
,即便可能可以用,材料商肯定會跟你講成分不一樣,
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12/02 20:53, 6年前 , 18F
要加價賣你,除非製程本身很強,可以自己去抓參數
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感謝樓上各位! ※ 編輯: newper (123.241.131.60 臺灣), 12/02/2019 20:55:40

12/02 21:36, 6年前 , 19F
EUV光阻跟一般光阻不一樣
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12/02 22:17, 6年前 , 20F
直覺上不同光源會主要影響選用的成分,不同波長影響吸收
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12/02 22:18, 6年前 , 21F
介於一樣跟不一樣之間
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12/02 22:20, 6年前 , 22F
PIP好嗎 這邊不可能問的到
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12/02 22:33, 6年前 , 23F
其實我更想問的是製程極限會不會不是發生在機台而是因為
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12/02 22:33, 6年前 , 24F
光阻做不到,導致後續3nm1nm碰壁
12/02 22:33, 24F

12/02 23:02, 6年前 , 25F
全台灣搞不好還沒幾個人摸過EUV 怎麼可能問得到
12/02 23:02, 25F

12/02 23:05, 6年前 , 26F
不同波長的光所需要的光酸不一樣
12/02 23:05, 26F

12/02 23:10, 6年前 , 27F
問這幹嘛? 要不要 dosage focus 一起講?
12/02 23:10, 27F

12/02 23:18, 6年前 , 28F
偷偷告訴你是用OMOG,剩下的我不能再說了
12/02 23:18, 28F

12/02 23:39, 6年前 , 29F
問這幹嘛
12/02 23:39, 29F

12/02 23:44, 6年前 , 30F
問這問題真的很瞎
12/02 23:44, 30F

12/02 23:49, 6年前 , 31F
非EUV的7nm 跟 14nm光源都是193 immersion 差在多重曝光,
12/02 23:49, 31F

12/02 23:49, 6年前 , 32F
光阻應該一樣或差不多,EUV 7nm 光源波長差那麼多,光阻
12/02 23:49, 32F

12/02 23:49, 6年前 , 33F
當然不一樣。
12/02 23:49, 33F

12/02 23:56, 6年前 , 34F
PIP 誰要跟你講
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12/03 00:01, 6年前 , 35F
作業自己做==
12/03 00:01, 35F

12/03 00:16, 6年前 , 36F
碩班做25um跟100um都用同一種PR
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12/03 00:16, 6年前 , 37F
給你參考
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12/03 00:42, 6年前 , 38F
PIP
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12/03 00:43, 6年前 , 39F
學生作業自己做啦
12/03 00:43, 39F

12/03 01:18, 6年前 , 40F
應該是12樓講得那樣
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12/03 01:18, 6年前 , 41F
會因為感光速度有成份微調
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12/03 01:19, 6年前 , 42F
我碩班做25um和100um用不同PR耶,不過是厚度不是線寬
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12/03 04:08, 6年前 , 43F
看你可憐 光阻正負會影響最小線寬 黏稠度也會
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12/03 04:09, 6年前 , 44F
剩下自己做功課
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12/03 05:46, 6年前 , 45F
其實一樣沒問題
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12/03 07:15, 6年前 , 46F
你每天站在GG大門口,開一看就知道了
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12/03 09:08, 6年前 , 47F
奈米越小臉越黃,選我正解
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12/03 09:16, 6年前 , 48F
PIP...
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12/03 09:16, 6年前 , 49F
而且同平台不同設備也可能有不同光阻搭配
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12/03 09:17, 6年前 , 50F
當然你要知道rough的答案就是不同
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12/03 09:49, 6年前 , 51F
日光燈會越來越黃
12/03 09:49, 51F

12/03 10:51, 6年前 , 52F
應該可以用一樣光阻的去做 只是良率效能會很差 所以肯定
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12/03 10:51, 6年前 , 53F
會微調或大改配方 兩個製程客戶能接受的價格也不同 最適
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12/03 10:51, 6年前 , 54F
合的配方肯定不會一樣
12/03 10:51, 54F

12/03 11:38, 6年前 , 55F
不同 layer 光阻就分好多種了,你問有沒有一樣的比較快
12/03 11:38, 55F

12/03 11:39, 6年前 , 56F
double patterning
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12/03 11:42, 6年前 , 57F
光阻..問光阻商就好啦...光阻製程定下來後夭壽難換的
12/03 11:42, 57F

12/03 13:31, 6年前 , 58F
線寬、厚度、正負型、光源、機台、塗布都有影響
12/03 13:31, 58F

12/03 13:33, 6年前 , 59F
光阻商願意調整多少,交期多急....
12/03 13:33, 59F

12/03 13:35, 6年前 , 60F
連帶影響要大改還是盡可能調整成分比例去解決
12/03 13:35, 60F

12/03 15:18, 6年前 , 61F
當然有差 不然幹嘛花好幾十億買泡水機
12/03 15:18, 61F

12/03 18:38, 6年前 , 62F
PIP
12/03 18:38, 62F
文章代碼(AID): #1TvFrM3U (Tech_Job)
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