[新聞] 英特爾7奈米 採EUV技術
隨著晶圓代工廠台積電(2330)及記憶體廠三星電子的7奈米邏輯製程均支援極紫外光(
EUV)微影技術,並會在2019年進入量產階段,半導體龍頭英特爾也確定正在開發中的7奈
米製程會支援新一代EUV技術。法人表示,三大半導體廠支援EUV的7奈米製程將在2020年
之後放量,打進英特爾及台積電EUV光罩盒供應鏈的家登(3680)將成為最大受惠者。
英特爾10奈米製程推進不如預期,導致14奈米產能供不應求,並造成2018年第四季以來的
處理器缺貨問題,預期要等到2019年第二季才會獲得紓解。英特爾日前已宣布將擴大資本
支出提升產能,並且預期10奈米Ice Lake處理器將在今年第四季量產出貨。
至於英特爾未來製程微縮計畫,據外電報導,掌管英特爾製程及製造業務技術及系統架構
事業的總裁兼首席工程師Murthy Renduchintala日前指出,10奈米製程與2014年訂定的製
程標準相同,不論性能、密度、功耗等都保持不變。另外,有了10奈米的製程研發經驗,
英特爾7奈米發展良好,並將加入新一代EUV微影技術,由於10奈米及7奈米是由不同團隊
開發,7奈米EUV製程不會受到10奈米製程延遲影響。不過,英特爾未提及7奈米何時可進
入量產。
業界指出,台積電及三星的7奈米EUV製程2019年逐步提升產能,但要開始真正大量進行投
片量產,應該要等到2020年之後。英特爾的7奈米EUV製程要真正進入生產階段,預期也要
等到2020年或2021年之後。不過,以三大半導體廠的計畫來看,EUV微影技術將成為7奈米
及更先進製程的主流。
隨著EUV製程進入量產階段,全球可提供EUV光罩盒的業者只有兩家,家登是其中之一。家
登新一代EUV光罩傳送盒G/GP Type在2018年底獲得設備大廠艾司摩爾(ASML)認證通過,
雙版本傳送盒可支援ASML的量產型EUV機台NXE: 3400B機型及未來更先進的機型。家登表
示,看好2019年半導體大廠開始採用EUV技術,家登光罩傳送盒可望放量出貨,目前產能
已供不應求,並積極擴產因應,對今年營運樂觀。
新聞來源: https://goo.gl/Lubg2K
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