[新聞] 台積電、三星拼7奈米製程 ASML極紫外光設備訂單強強滾
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台積電、三星拼7奈米製程 ASML極紫外光設備訂單強強滾
〔記者洪友芳/新竹報導〕全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾 (ASML) 公佈今年第
一季財報,季營收19.4億歐元,毛利率為47.6%,EUV極紫外光微影系統的未出貨訂單則已
累積到21台,價值高達23億歐元,預估第二季營收將落在19到20億歐元之間,毛利率約為
43到44%。
ASML總裁暨執行長溫彼得 (Peter Wennink) 指出,「積極的產業環境為2017年提供了
一個的強勁開始,我們預估這樣健康的市場需求將持續今年一整年。我們看到客戶對於
DUV的強烈需求,有些客戶選購效能升級方案以優化他們現有的浸潤式機台,因此我們的
服務和升級業務在第一季度的表現也非常好,預估這樣的趨勢將延續到第二季。」
溫彼得也說明攸關先進製程設備銷售進展,指出EUV極紫外光微影系統正進入量產階段,
訂單持續湧入,目前的未出貨訂單已累積到21台。
三星去年年中傳出購買EUV 機台設備,傳出預計今年底量產7奈米;台積電7奈米製程已在
第一季底試產與準備明年量產,此製程首度導入極紫外光微影技術,並為客戶提供強化版
的產品設計。
對於第一季產品銷售情況,ASML表示,深紫外光 (DUV)微影持續出貨,NXT:1980浸潤式
微影系統給記憶體客戶及邏輯晶片客戶進行10奈米量產、7奈米製程開發,目前NXT:1980
浸潤式系統的累積裝機量已提高達到60多台。
本季ASML和Cadence宣布合作,將ASML的微影和圖樣模擬(patterning simulation) 模
型整合到Cadence的產品中,這將幫助晶片設計業者在設計階段就能進行可生產性確認,
以達到更好的效能並縮短上市時程。極紫外光(EUV)微影已在第一季末到第二季初間完
成第一台NXE:3400B系統的出貨。
(自由時報 2017/04/20)
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