[請益] 半導體製程UV curing

看板Tech_Job作者 (asashi)時間8年前 (2015/10/31 21:30), 編輯推噓11(11推 0噓 6→)
留言17則, 11人參與, 最新討論串1/1
請教下 小弟沒進去過半導體廠 最近在寫些半導體產業狀況 若有寫錯麻煩訂正下 謝謝! 最近查到"UV curing"(紫外光固化) 就UV固化設備 google查到 他是用在微影製程 主要功能是利用UV光對光阻進行預處理以加強光阻的強度 這是還沒在曝光前預熱(軟烤)的嗎?? 還是其他製程? 還是我查的資料有錯 不是用在半導體製程 謝謝!!! -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 118.171.11.45 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1446298224.A.772.html
推
10/31 21:35, , 1F
UV是單獨出來的機台, 通常是在IMPL前的製程
10/31 21:35, 1F
推
10/31 21:51, , 2F
不是用在黃光，用在 TF 氧化薄膜上，使固化沒錯
10/31 21:51, 2F
推
10/31 21:56, , 3F
tf 的ultra low k吧
10/31 21:56, 3F
推
10/31 22:03, , 4F
To 1&2F, 確實有用在微影製程.後段metal 顯影後可用
10/31 22:03, 4F
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10/31 22:04, , 5F
用在哪看工廠製程設計上可以有不同選擇 我相信1.2樓看過
10/31 22:04, 5F
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10/31 22:05, , 6F
的flow確實有人會這樣安排
10/31 22:05, 6F
推
10/31 22:07, , 7F
這種機台的結構設計上相對其他機台簡單一些 因為只做
10/31 22:07, 7F
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10/31 22:08, , 8F
UV照射, 所以run貨速度非常快, 需要監測的參數也較少
10/31 22:08, 8F
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10/31 22:08, , 9F
但是相對來說如果發生問題也比較難第一時間發現
10/31 22:08, 9F
推
10/31 22:13, , 10F
LK film後的UV Curing
10/31 22:13, 10F
推
10/31 22:15, , 11F
填via的洞啦.....
10/31 22:15, 11F
推
10/31 22:23, , 12F
用來detapping？
10/31 22:23, 12F
推
10/31 23:29, , 13F
PE:X！又殘膠了！
10/31 23:29, 13F
推
11/01 00:40, , 14F
很多地方有用@@利用不同波段用在不同的地方~
11/01 00:40, 14F
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11/01 00:48, , 15F
UV curing 要了解到是把什麼原子Cur 出來，半導體通常用D
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11/01 00:48, , 16F
ep之後
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推
11/01 13:44, , 17F
Pm有夠麻煩
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