[請益] double patterning lithography

看板Tech_Job作者 (砝碼)時間12年前 (2012/06/15 11:34), 編輯推噓1(1推 0噓 7→)
留言8則, 4人參與, 最新討論串1/1
不知版上有沒有人知道 double patterning lithography 雙圖樣微影 的製程過程 實在是不太了解它主要的製成精隨 故來此請教各位高手! 感謝! -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.112.218.97
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06/15 11:43, , 1F
google上有很多 可先研究一番
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推
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就一塊光罩拆成兩塊而已 黃光多曝一次 蝕刻多吃一次
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為什麼鋪兩次就會增加精確性@@?
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因為機台不夠精準了,光學物理有極限,所以光罩分兩次做
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把光罩切割成單數雙數行,先作單在做雙，線距就會提昇
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這樣機台就可以製造了, 通常是深奈米製程才會用到
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非常感謝樓上 現在懂了!
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06/16 07:32, , 8F
好聰明的解決方法XD
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