[新聞] 英特爾擴展與ASML合作 下訂首台先進EUV系統
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原文標題：英特爾擴展與ASML合作 下訂首台先進EUV系統
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原文連結：
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發布時間：2022/1/19 19:25
(請以原文網頁/報紙之發布時間為準)
原文內容：
（中央社記者張建中新竹19日電）英特爾（Intel）今天宣布，已向半導體微影設備廠艾司
摩爾（ASML）下訂首台具備高數值孔徑（High-NA）的極紫外光大量生產系統TWINSCAN EXE
5200，延續雙方長遠合作關係。
英特爾表示，去年7月即公開宣布部署首款High-NA技術的計畫，確立電晶體創新路線圖發展
。其實英特爾早在2018年便是之前TWINSCAN EXE 5000系統的首位買家，這次下訂TWINSCAN
EXE 5200，是延續與ASML的合作關係。
英特爾指出，保持半導體微影技術的領先地位是英特爾的重點，去年持續不斷打造EUV的專
業知識和能力，透過與ASML的密切合作，將汲取High-NA EUV的高階析度圖案化優勢，作為
延續摩爾定律的其中一個方式，並將英特爾追尋電晶體微縮的優良傳統延續下去。
ASML的EXE平台為極紫外光（EUV）技術的演化步驟，英特爾表示，其包含新穎的光學設計與
大幅提升速度的光罩與晶圓階段。
英特爾指出，系統所具備的數值孔徑結合使用波長，決定了最小能夠印製的特徵尺寸。TWIN
SCAN EXE 5000和EXE 5200系統與之前EUV機器所具備的0.33數值孔徑鏡片相比，提供更高精
確度的0.55數值孔徑，為更小的電晶體特徵提供更高的解析度圖案化。
英特爾表示，2025年將開始以高數值孔徑EUV進行生產製造。新下訂的TWINSCAN EXE 5200每
小時具備200片以上晶圓產能。（編輯：潘羿菁）
心得/評論： ※必需填寫滿30字，無意義者板規處分
原來這就是讓AMD變後照鏡的原因
三星GG也快要在後照鏡看到了
早買早享受
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